发明公开
- 专利标题: 制造半导体器件的方法
- 专利标题(英): Method of manufacturing a semiconductor device
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申请号: CN201210177527.2申请日: 2012-05-31
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公开(公告)号: CN102810490A公开(公告)日: 2012-12-05
- 发明人: 邢智蛘 , 乌尔里希·克鲁姆贝因 , 斯特凡·马滕斯 , 施明计 , 维尔纳·西姆比埃格 , 霍斯特·托伊斯 , 赫尔穆特·维奇尔克
- 申请人: 英飞凌科技股份有限公司
- 申请人地址: 德国瑙伊比贝尔格
- 专利权人: 英飞凌科技股份有限公司
- 当前专利权人: 英飞凌科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 德国瑙伊比贝尔格
- 代理机构: 北京康信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 余刚; 吴孟秋
- 优先权: 13/152,021 2011.06.02 US
- 主分类号: H01L21/603
- IPC分类号: H01L21/603 ; H01L21/78
摘要:
本发明涉及制造半导体器件的方法,其一个实施方式包括:在载体上配置晶片,该晶片包括单独的芯片;将单独的芯片结合到支撑晶片上并去除载体。
公开/授权文献
- CN102810490B 制造半导体器件的方法 公开/授权日:2015-09-09
IPC分类: