本发明提供一种阀体，能够在清洗阀体时无需实质上停止基板处理系统。基板处理系统10包括对基板S实施干蚀刻处理的处理室13和输送基板S的传递室11，开放或关闭连通处理室13和传递室11的连通口19a的阀体22包括可移动的主体23和罩部件24，罩部件24能够从主体23拆下，由在阀体22关闭连通口19a时隔着连通口19a与处理室13相对的相对部件40构成，在阀体22关闭连通口19a时，通过连通口19a从处理室13侧观察阀体22，在连通口19a内能够视认相对部件40整体。