晶片加工用胶带及其制造方法
Abstract:
提供即使在胶粘剂层很薄(10μm以下,特别是5μm以下)的情况下,传感器识别性也很良好,且生产性或检查精度为良好的晶片加工用胶带及其制造方法。晶片加工用胶带(10),具备:长条状的脱模型膜(11),与胶粘剂层(12(22))、粘合膜(13(23a、23b))。脱模型膜(11),于面(11a)形成有沿着标签形状粘接部(22)的外周的环状的第1切痕部(26)。此第1切痕部(26),在脱模型膜(11)与粘合膜(13(23a))被层叠的层叠部,是以对应于有第1切痕部(26)的位置的层叠部(27b)的600~700nm波长的透过率A(%)与对应于没有第1切痕部(26)的位置的层叠部(27a)的600~700nm波长的透过率B(%)的透过率差C成为0.1%以上的方式被形成的。
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