发明公开
- 专利标题: 用于控制EUV曝光剂量的方法和EUV光刻方法及使用这样的方法的设备
- 专利标题(英): Methods to control EUV exposure dose and EUV lithographic methods and apparatus using such methods
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申请号: CN201210357911.0申请日: 2012-09-24
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公开(公告)号: CN103034066A公开(公告)日: 2013-04-10
- 发明人: 简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 , 亨瑞克斯·罗伯特斯·玛丽·范格瑞文波奥克 , V·V·伊万诺夫 , A·M·雅库尼恩 , H·J·M·柯鲁维尔
- 申请人: ASML荷兰有限公司
- 申请人地址: 荷兰维德霍温
- 专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰维德霍温
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 张启程
- 优先权: 61/540,417 2011.09.28 US; 61/601,841 2012.02.22 US
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20
摘要:
本发明公开了用于控制EUV曝光剂量的方法和EUV光刻方法及使用这样的方法的设备。光刻设备中的EUV曝光剂量通过改变转换效率而被从脉冲至脉冲控制,以该转换效率通过对应的激励激光辐射脉冲激励燃料材料产生EUV辐射脉冲。转换效率可以以几种不同的方式改变,通过改变与激光束相交的燃料材料的比例,和/或通过改变相互作用的品质。改变转换效率的机制可以基于激光脉冲时序的变化、预先脉冲能量的变化、和/或在一个或更多的方向上的主激光束的可变化的位移。可以包括保持所产生的EUV辐射的对称性的步骤。