发明授权
- 专利标题: 在光阻释气期间用于改进注入均匀性的方法
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申请号: CN201180012345.3申请日: 2011-03-04
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公开(公告)号: CN103098167B公开(公告)日: 2015-11-25
- 发明人: 佐藤秀
- 申请人: 艾克塞利斯科技公司
- 申请人地址: 美国马萨诸塞州
- 专利权人: 艾克塞利斯科技公司
- 当前专利权人: 艾克塞利斯科技公司
- 当前专利权人地址: 美国马萨诸塞州
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 刘晓峰
- 优先权: 12/717,536 2010.03.04 US
- 国际申请: PCT/US2011/000427 2011.03.04
- 国际公布: WO2011/109115 EN 2011.09.09
- 进入国家日期: 2012-09-04
- 主分类号: H01J37/317
- IPC分类号: H01J37/317 ; H01J37/244 ; H01J37/147 ; H01J37/304
摘要:
本发明提供一种用于改进经历沿着束线的压力增加的离子束的注入均匀性的方法及装置。该方法包括产生以基本上恒定的速度横越工件来移动离子束的主扫描波形。也产生具有固定高度和波形的补偿波形(例如,二次波形),且将该补偿波形与主扫描波形混合(例如,通过可变混频器)以形成束扫描波形。可通过瞬时真空压力信号来调节混合比率,与连续修改扫描波形相比较,该调节可以以高很多的速度执行且更简单。该混合提供包括非恒定斜率的束扫描波形,该非恒定斜率在离子束横越工件移动时改变离子束的速度。因此,具有非恒定斜率的所获得的束扫描波形能够解决沿着快速扫描方向的剂量中的压力非均匀性问题。
公开/授权文献
- CN103098167A 在光阻释气期间用于改进注入均匀性的方法 公开/授权日:2013-05-08