发明公开
CN103134993A 层间层内电容的分离方法
无效 - 撤回
- 专利标题: 层间层内电容的分离方法
- 专利标题(英): Separating method of capacitance among layers and in layers
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申请号: CN201110397748.6申请日: 2011-12-05
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公开(公告)号: CN103134993A公开(公告)日: 2013-06-05
- 发明人: 魏泰 , 蒋乐乐 , 王磊 , 程玉华
- 申请人: 上海北京大学微电子研究院
- 申请人地址: 上海市浦东新区盛夏路608号
- 专利权人: 上海北京大学微电子研究院
- 当前专利权人: 上海北京大学微电子研究院
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区盛夏路608号
- 主分类号: G01R27/26
- IPC分类号: G01R27/26
摘要:
本发明提出了一种金属层间层内电容的分离方法,以有效的分离金属层间、层内电容。该分离方法主要包括:测量平行金属板结构和combmeander结构的层间电容,测量金属结构combmeander的层内电容,测量平行金属板结构和金属结构comb之间的层间电容,测量平行金属板结构和金属结构meander之间的层间电容;combmeander的层内电容乘二再加上平行金属板结构各与结构comb、meander之间的层间电容,再减去平行金属板结构和combmeander结构之间的总电容,便分离出金属结构combmeander的层内电容。这种金属层间层内电容的分离方法能够更加精确有效的分离出层内电容。