- 专利标题: 半导体接合结构体和半导体接合结构体的制造方法
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申请号: CN201180049406.3申请日: 2011-10-17
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公开(公告)号: CN103155127B公开(公告)日: 2016-08-03
- 发明人: 中村太一 , 古泽彰男 , 酒谷茂昭 , 北浦秀敏 , 石丸幸宏
- 申请人: 松下知识产权经营株式会社
- 申请人地址: 日本大阪府
- 专利权人: 松下知识产权经营株式会社
- 当前专利权人: 松下知识产权经营株式会社
- 当前专利权人地址: 日本大阪府
- 代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 冯雅
- 优先权: 2010-237514 2010.10.22 JP
- 国际申请: PCT/JP2011/005790 2011.10.17
- 国际公布: WO2012/053178 JA 2012.04.26
- 进入国家日期: 2013-04-12
- 主分类号: H01L21/52
- IPC分类号: H01L21/52 ; B23K1/00 ; H05K3/34 ; B23K35/26 ; C22C13/00
摘要:
提供一种具有优异的应力缓和性,同时具有耐热性的半导体接合结构体,它是通过焊锡材料将半导体元件(102)和电极(103)接合而成的接合结构体。接合部分(212)具有形成在电极侧的第一金属互化物层(207‘)、形成在半导体元件侧的第二金属互化物层(208‘)以及被第一金属互化物层(207‘)和第二金属互化物层(208‘)的二层夹在中间的由含有Sn的相(210)和棒状金属互化物部(209‘)构成的第三层(300),棒状金属互化物部(209‘)与第一金属互化物层(207‘)和第二金属互化物层(208‘)的两者层间接合。
公开/授权文献
- CN103155127A 半导体接合结构体和半导体接合结构体的制造方法 公开/授权日:2013-06-12
IPC分类: