发明公开
- 专利标题: 非易失性存储器件及其操作方法和制造方法
- 专利标题(英): Nonvolatile memory device, method for operating the same, and method for fabricating the same
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申请号: CN201210513073.1申请日: 2012-12-04
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公开(公告)号: CN103187421A公开(公告)日: 2013-07-03
- 发明人: 安泳洙 , 崔锺武 , 卢侑炫
- 申请人: 爱思开海力士有限公司
- 申请人地址: 韩国京畿道
- 专利权人: 爱思开海力士有限公司
- 当前专利权人: 爱思开海力士有限公司
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道
- 代理机构: 北京弘权知识产权代理事务所
- 代理商 周晓雨; 俞波
- 优先权: 10-2011-0144934 2011.12.28 KR
- 主分类号: H01L27/115
- IPC分类号: H01L27/115 ; H01L21/8247 ; G11C16/10 ; G11C16/26
摘要:
本发明公开了一种非易失性存储器件及其操作方法和制造方法,所述非易失性存储器件包括:多个沟道结构,形成在衬底之上,并且包括与多个沟道层交替层叠的多个层间电介质层;第一垂直栅和第二垂直栅,沿着与沟道结构相交叉的一个方向交替地设置在沟道结构之间并与多个沟道层相邻,存储器层插入在第一垂直栅和第二垂直栅与多个沟道层之间;以及第一字线和第二字线对,设置在沟道结构之上或之下,并以与第一垂直栅和第二垂直栅重叠的方式沿着一个方向延伸。第一字线与第一垂直栅连接,第二字线与第二垂直栅连接。
公开/授权文献
- CN103187421B 非易失性存储器件及其操作方法和制造方法 公开/授权日:2016-12-21
IPC分类: