发明授权
CN103199017B 形成掩埋导电层方法、材料厚度控制法、形成晶体管方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 形成掩埋导电层方法、材料厚度控制法、形成晶体管方法
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申请号: CN201310060514.1申请日: 2004-12-28
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公开(公告)号: CN103199017B公开(公告)日: 2016-08-03
- 发明人: 阿肖克·沙拉 , 艾伦·埃尔班霍威 , 克里斯托弗·B·科康 , 史蒂文·P·萨普 , 彼得·H·威尔逊 , 巴巴克·S·萨尼
- 申请人: 飞兆半导体公司
- 申请人地址: 美国缅因州
- 专利权人: 飞兆半导体公司
- 当前专利权人: 飞兆半导体公司
- 当前专利权人地址: 美国缅因州
- 代理机构: 北京康信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 余刚; 李静
- 优先权: 60/533,790 2003.12.30 US; 60/588,845 2004.07.15 US
- 分案原申请号: 2004800421611 2004.12.28
- 主分类号: H01L21/3205
- IPC分类号: H01L21/3205 ; H01L21/336
摘要:
本发明提供用于在形成在半导体基板上的沟槽内形成掩埋导电层的方法、用于控制外延生长的半导体材料的厚度的方法、用于控制外延生长的半导体材料的厚度的方法、用于形成沟槽栅型晶体管的方法。方法包括:在半导体基板和所述沟槽的上表面上形成第一介电材料层;在第一介电材料层上形成第一导电材料层;图样化第一介电材料层和所述第一导电材料层以形成第一导电电极,所述第一导电电极包括在所述沟槽内沿着所述沟槽的纵轴延伸的第一部分以及在所述沟槽的第一末端处的所述基板的顶部上延伸的第二部分;在所述第一导电材料层上形成第二介电材料层;在所述第二导电材料层上形成第二介电材料层;以及图样化所述第二介电材料层和所述第二导电材料层。
公开/授权文献
- CN103199017A 形成掩埋导电层方法、材料厚度控制法、形成晶体管方法 公开/授权日:2013-07-10
IPC分类: