发明公开
- 专利标题: 薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板及显示器
- 专利标题(英): Thin film transistor, manufacturing method thereof, array substrate and display
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申请号: CN201310272556.1申请日: 2013-07-01
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公开(公告)号: CN103367165A公开(公告)日: 2013-10-23
- 发明人: 阎长江 , 蒋晓纬 , 姜晓辉 , 谢振宇 , 陈旭
- 申请人: 北京京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市大兴区经济技术开发区西环中路8号
- 专利权人: 北京京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 北京京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市大兴区经济技术开发区西环中路8号
- 代理机构: 北京同达信恒知识产权代理有限公司
- 代理商 黄志华
- 主分类号: H01L21/336
- IPC分类号: H01L21/336 ; H01L29/786 ; H01L29/06
摘要:
本发明公开了一种薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板及显示器,用以避免半导体有源层受到光照影响而导致薄膜晶体管产生漏电流的问题。所述薄膜晶体管包括源极和漏极、半导体有源层、栅极绝缘层和栅极,该薄膜晶体管还包括:位于源极与漏极之间的遮光板,所述遮光板将源极与漏极阻断,并且该遮光板位于半导体有源层的入射光侧,用于阻挡入射光对半导体有源层的照射。
IPC分类: