发明授权
- 专利标题: 一种发光二极管芯片的制作方法、芯片及发光二极管
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申请号: CN201310386184.5申请日: 2013-08-29
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公开(公告)号: CN103456864B公开(公告)日: 2016-01-27
- 发明人: 刘晶 , 叶国光
- 申请人: 刘晶
- 申请人地址: 广东省江门市蓬江区翡翠华府8幢之一604
- 专利权人: 刘晶
- 当前专利权人: 广东爱华新光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省江门市蓬江区翡翠华府8幢之一604
- 代理机构: 广州市越秀区哲力专利商标事务所
- 代理商 汤喜友
- 主分类号: H01L33/48
- IPC分类号: H01L33/48 ; H01L33/14 ; H01L33/62 ; H01L33/64
摘要:
本发明提供一种封装成本低、发光效率高、散热好的发光二极管芯片的制造方法。在蓝宝石衬底上依次生长出氮化镓缓冲层,负型半导体材料层、发光层与正型半导体材料层;在正型半导体材料层上同时刻蚀出电流阻挡区域和定义单颗芯片的切割槽,并在所述电流阻挡区域和定义单颗芯片的切割槽内填充绝缘材料;在正型半导体材料层上粘附导电支撑基材,剥离蓝宝石衬底;将剥离蓝宝石衬底后显露的氮化镓缓冲层去除,至显露出负型半导体材料层,再将负型半导体材料层的出光面粗化;在所述的负型半导体材料层上镀上负电极;切割导电支撑基材,崩裂外延片分离成单颗芯片。
公开/授权文献
- CN103456864A 一种发光二极管芯片的制作方法、芯片及发光二极管 公开/授权日:2013-12-18
IPC分类: