发明公开
- 专利标题: 用于石墨烯MOSFET的氮化物栅极电介质
- 专利标题(英): Nitride gate dielectric for graphene MOSFET
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申请号: CN201280013918.9申请日: 2012-03-08
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公开(公告)号: CN103459137A公开(公告)日: 2013-12-18
- 发明人: P·阿沃里斯 , D·A·诺伊迈尔 , 朱文娟
- 申请人: 国际商业机器公司
- 申请人地址: 美国纽约
- 专利权人: 国际商业机器公司
- 当前专利权人: 格芯公司
- 当前专利权人地址: 美国纽约
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 贺月娇; 于静
- 优先权: 13/051,707 2011.03.18 US
- 国际申请: PCT/US2012/028172 2012.03.08
- 国际公布: WO2012/128956 EN 2012.09.27
- 进入国家日期: 2013-09-17
- 主分类号: B32B9/00
- IPC分类号: B32B9/00 ; H01L21/04
摘要:
一种半导体结构,其包括:衬底;所述衬底上的石墨烯层;所述石墨烯层上的源电极和漏电极,所述源电极与所述漏电极分开预定尺寸;所述石墨烯层上的氮化物层,其位于所述源电极与所述漏电极之间;以及所述氮化物层上的栅电极,其中所述氮化物层为用于所述栅电极的栅极电介质。
公开/授权文献
- CN103459137B 用于石墨烯MOSFET的氮化物栅极电介质 公开/授权日:2016-03-30