发明公开
- 专利标题: 氧化物型半导体材料及溅镀靶
- 专利标题(英): Oxide-type semiconductor material and sputtering target
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申请号: CN201280018536.5申请日: 2012-04-06
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公开(公告)号: CN103608924A公开(公告)日: 2014-02-26
- 发明人: 德地成纪 , 石井林太郎 , 附田龙马 , 久保田高史 , 高桥广己
- 申请人: 三井金属矿业株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 三井金属矿业株式会社
- 当前专利权人: 三井金属矿业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京戈程知识产权代理有限公司
- 代理商 程伟
- 优先权: 2011-118804 2011.05.27 JP
- 国际申请: PCT/JP2012/059486 2012.04.06
- 国际公布: WO2012/165047 JA 2012.12.06
- 进入国家日期: 2013-10-15
- 主分类号: H01L29/786
- IPC分类号: H01L29/786 ; C04B35/00 ; C04B35/453 ; C23C14/08 ; C23C14/34 ; H01L21/336 ; H01L21/363
摘要:
本发明的目的是公开一种由Zn氧化物与Sn氧化物所构成的氧化物型半导体材料(ZTO:Zn-Sn-O系氧化物),以作为IGZO的代替材料,该氧化物型半导体材料是与IGZO同等以上的10cm2/Vs左右的高载子迁移率,并且不须要高温热处理。本发明为含有Zn氧化物与Sn氧化物的氧化物型半导体材料,其特征是含有Zr以作为掺杂物,Zr含有量为,相对于作为金属元素的Zn、Sn、Zr的各原子数总和的掺杂物的原子比为0.005以下。
公开/授权文献
- CN103608924B 氧化物型半导体材料及溅镀靶 公开/授权日:2016-08-10
IPC分类: