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公开(公告)号：CN119816389A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202380063343.X
申请日：2023-06-28
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: B22F1/052 , B22F1/145 , B22F1/054 , B22F1/17 , B22F9/24 , C22C19/03 , H01B5/00 , H01B13/00 , H01G4/008 , H01G4/30 , H01G4/12
Abstract: 一种镍粒子，其具有包含镍与金属元素M的合金的表面区域。金属元素M为选自铋、铜、铁及钼中的至少1种。金属元素M相对于镍粒子整体的含量为0.09质量％～15.8质量％。在通过X射线光电子分光分析在镍粒子的深度方向上对从最表面至以SiO2换算计的溅射深度为5nm为止的区域进行测定时，在该区域中，将金属元素M的原子数相对于镍元素与金属元素M的合计原子数的比例的最大值设定为X(at％)，在通过ICP发光分光分析法对镍粒子进行测定时，将金属元素M的原子数相对于镍元素与金属元素M的合计原子数的比例设定为Y(at％)时，X/Y的值为0.5～35。
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公开(公告)号：CN119816387A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202380063344.4
申请日：2023-06-28
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: B22F1/00 , B22F1/052 , B22F1/054 , B22F1/17 , B22F9/24 , B22F9/30 , C22C19/03 , H01B5/00 , H01B13/00
Abstract: 一种镍粒子，其具有包含镍与金属元素M的合金的表面区域。金属元素M为选自锡及锌中的至少1种。金属元素M相对于镍粒子整体的含量为0.16质量％～11.4质量％。在通过X射线光电子分光分析在镍粒子的深度方向上对从最表面至以SiO2换算计的溅射深度为5nm为止的区域进行测定时，在该区域中，将金属元素M的原子数相对于镍元素与金属元素M的合计原子数的比例的最大值设定为X(at％)，在通过ICP发光分光分析法对镍粒子进行测定时，将金属元素M的原子数相对于镍元素与金属元素M的合计原子数的比例设定为Y(at％)时，X/Y的值为1.5～30。
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公开(公告)号：CN114556655B
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202080072393.0
申请日：2020-10-20
Applicant: 三井金属矿业株式会社
Abstract: 本发明的固体电解质含有如下化合物：所述化合物包含具有硫银锗矿型晶体结构的结晶相，且用LiaPSbXc(X为至少一种卤族元素。a表示3.0以上且6.0以下的数。b表示3.5以上且4.8以下的数。c表示0.1以上且3.0以下的数)表示。硫银锗矿型结构的结晶相相对于构成前述固体电解质的全部结晶相的比率为97.0wt％以上。前述化合物的晶格畸变小于0.10％。前述固体电解质的锂离子电导率为4.0mS/cm以上时是合适的。
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公开(公告)号：CN119487250A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202380051521.7
申请日：2023-08-29
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: D04H1/4234 , C25B11/031 , C25B11/042 , C25B11/046
Abstract: 一种金属无纺布，其包含金属纤维而成且具有液体渗透性。金属纤维的平均纤维直径为20nm以上且10μm以下。在金属无纺布中，通过压汞法测定的空隙的分布峰顶直径为30μm以下。在金属无纺布中，通过压汞法测定的空隙的分布峰顶直径优选为0.01μm以上。对于构成金属纤维的金属的晶体，将沿着该金属纤维的延伸方向的长度设为X、将沿着与该方向正交的方向的长度设为Y时，沿着该金属纤维的延伸方向将长度四等分时的三处边界区域的X相对于Y的比即X/Y的值的算术平均值优选为4以下。
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公开(公告)号：CN119384714A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202380047738.0
申请日：2023-06-20
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: H01L21/304 , C09K3/14 , C30B29/36 , C30B33/00
Abstract: 本发明的SiC基板的制造方法具有通过研磨材浆料对SiC基板的主表面进行研磨的研磨处理工序，所述研磨材浆料具有：包含氧化锰粒子的氧化锰磨粒、高锰酸根离子和磷酸类。此外，本发明的SiC基板研磨用研磨材浆料含有包含氧化锰粒子的氧化锰磨粒、高锰酸根离子和磷酸类。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119365938A
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202380047142.0
申请日：2023-06-29
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: H01B13/00 , C01B25/14 , H01B1/06 , H01B1/10 , H01M10/0562
Abstract: 一种对硫化合物进行粉碎的粉碎方法，该方法满足以下式(1)所示的关系。D2/D1
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公开(公告)号：CN119230777A
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN202411346669.6
申请日：2022-04-11
Applicant: 三井金属矿业株式会社
Inventor： 井上大辅 , 山本拓也 , 杰米·W·杜蒙特 , 阿瑞蕾妮·A·达默龙 , 芭芭拉·K·休斯
IPC: H01M4/36 , H01M4/505 , H01M4/485 , H01M10/052
Abstract: 本发明涉及活性物质及其制造方法。活性物质具有芯部和位于芯部的表面的覆盖部。芯部包含锂(Li)元素、锰(Mn)元素和氧(O)元素。覆盖部包含A元素(A为选自由Ti、Zr、Ta、Nb和Al组成的组中的至少1种。)和氧(O)元素。将覆盖部的平均厚度设为T(nm)、将活性物质的比表面积设为S(m2/g)、将覆盖部中所含的A元素的量设为W(质量％)时，W/(T×S)的值大于0且为15质量％/(cm3/g)以下。
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公开(公告)号：CN113508484B
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202080017561.6
申请日：2020-09-03
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: H01M10/0562 , H01M10/058 , H01M10/0525 , H01M4/62
Abstract: 一种硫化物固体电解质，其在通过使用了CuKα1射线的X射线衍射测量而得到的X射线衍射图中在2θ＝20.7°±0.5°处具有峰A。优选在通过使用了CuKα1射线的X射线衍射测量而得到的X射线衍射图中在2θ＝25.4°±1.0°处具有峰B。也优选在将峰A的强度设定为IA、将峰B的强度设定为IB时，IA与IB之比即IA/IB的值大于0且为0.7以下。也优选在通过使用了CuKα1射线的X射线衍射测量而得到的X射线衍射图中在2θ＝22.0°±0.5°处具有峰C。
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公开(公告)号：CN117916553B
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202180101984.0
申请日：2021-12-22
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: G01B21/30 , G01N21/956
Abstract: 提供一种表示与高频特性高度相关的铜箔的表面参数的测定方法。该铜箔的表面参数的测定方法包括以下工序：工序(a)，获得未处理铜箔的至少一个表面的表面轮廓的工序；工序(b)，基于表面轮廓设定L滤波器的截止值的工序；工序(c)，获得源自未处理铜箔的表面处理铜箔的至少一个表面的表面轮廓的工序；工序(d)，对表面处理铜箔的表面轮廓进行滤波处理的工序，其中包括使用上述截止值的L滤波器进行处理的步骤；和工序(e)，基于滤波处理后的表面轮廓，计算表面处理铜箔的表面的、ISO25178所规定的表面参数中的至少1种的工序。
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公开(公告)号：CN118843603A
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202280093340.6
申请日：2022-10-25
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: C01G35/00
Abstract: 本发明的钽酸化合物分散液是以Ta2O5换算计含有0.1质量％以上且低于30质量％钽的钽酸化合物分散液，利用动态光散射法得到的上述钽酸化合物分散液中的钽酸化合物粒径(D50)为100nm以下。此外，本发明的钽酸化合物分散液的制造方法具有下述工序：将过氧化氢添加到氟化钽水溶液中而生成钽化合物水溶液的反应工序；和将上述钽化合物水溶液添加到碱性水溶液中而生成含钽沉淀物的逆中和工序。
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