发明公开
- 专利标题: 金属凸块及其制造方法
- 专利标题(英): Metal bump and method of manufacturing same
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申请号: CN201310428929.X申请日: 2013-09-18
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公开(公告)号: CN103681590A公开(公告)日: 2014-03-26
- 发明人: 林彦良 , 曾裕仁 , 黄昶嘉 , 郭庭豪 , 陈承先
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹
- 代理机构: 北京德恒律治知识产权代理有限公司
- 代理商 章社杲; 孙征
- 优先权: 61/702,624 2012.09.18 US; 61/707,442 2012.09.28 US; 61/707,609 2012.09.28 US; 61/707,644 2012.09.28 US; 13/904,885 2013.05.29 US
- 主分类号: H01L23/498
- IPC分类号: H01L23/498 ; H01L21/48
摘要:
本发明提供了一种凸块结构的实施例,包括:形成在衬底上的接触元件;覆盖衬底的钝化层,钝化层具有露出接触元件的钝化开口;覆盖钝化层的聚酰亚胺层,聚酰亚胺层具有露出接触元件的聚酰亚胺开口;电连接至接触元件的凸块下金属化层(UBM)部件,凸块下金属化层部件具有UBM宽度;以及位于凸块下金属化层部件上的铜柱,铜柱的远端具有铜柱宽度,并且UMB宽度大于铜柱宽度。本发明还提供了一种形成凸块结构的方法。
IPC分类: