本发明公开了一种在半导体晶片上获得光刻胶图形的显影方法。该方法中，首先提供显影设备与晶圆，所述显影设备包括喷洒显影液的显影喷头与能够旋转的承片台；其中：晶圆固定设置于承片台上，晶圆随着承片台旋转时显影喷头能在晶圆上方横向移动；然后在承片台旋转的同时，所述显影喷头从所述晶圆一侧的初始位置正上方移动到所述晶圆另一侧的结束位置正上方，显影液涂布于晶圆上。本发明方法通过承片台的旋转和显影喷头的移动保证晶圆上的显影液均匀覆盖，而使整个晶圆上的显影达到一个平衡状态，解决了现有技术中显影过程显影液覆盖不均匀及线宽均匀性差的问题，挺高线宽均匀性。