- 专利标题: 在微光刻投射曝光设备中热致动反射镜的布置
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申请号: CN201180073600.5申请日: 2011-09-21
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公开(公告)号: CN103814331B公开(公告)日: 2016-06-29
- 发明人: J.哈特杰斯
- 申请人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 申请人地址: 德国上科亨
- 专利权人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 当前专利权人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 当前专利权人地址: 德国上科亨
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 邱军
- 国际申请: PCT/EP2011/066425 2011.09.21
- 国际公布: WO2013/041134 EN 2013.03.28
- 进入国家日期: 2014-03-21
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20 ; G02B7/18
摘要:
本发明涉及在微光刻投射曝光设备中热致动反射镜的布置,其中反射镜(901)具有光学有效表面(901a)和至少一个进入通道(910、910’),至少一个进入通道(910、910’)在所述有效表面的方向上从该反射镜的不对应于光学有效表面的表面延伸,其中该布置设计为利用在进入通道(910)中传播的电磁辐射热致动反射镜(901),其中该布置还具有至少一个热辐射装置,其产生在进入通道(910、910’)中传播的电磁辐射,以及其中热辐射装置可沿着进入通道(910、910’)致动。
公开/授权文献
- CN103814331A 在微光刻投射曝光设备中热致动反射镜的布置 公开/授权日:2014-05-21