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公开(公告)号：CN112384862B
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN201980044987.8
申请日：2019-06-25
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
摘要： 本发明涉及一种微光刻的组件，特别是使用极EUV范围(EUV)中的光，所述微光刻的组件包括用于支撑光学单元(106、107)的支撑结构(109)，所述光学单元的质量特别是等于4t至14t，优选地为5t至10t，更优选地为6t至8t。支撑结构(109)包括用于支撑光学单元(106、107)的多个分离的支撑单元(110.1、110.2、110.3、110.4)。支撑单元(110.1、110.2、110.3、110.4)中的每一个包括空气轴承单元(111.1、111.2、111.3、111.4)，通过空气轴承单元能够生成抵消光学单元(106、107)的重量的支撑力。支撑单元(110.1、110.2、110.3、110.4)的数目至少等于四个，其中，经由联接装置(112)联接支撑单元(110.1、110.2、110.3、110.4)中的至少两个以形成支撑单元对，使得联接装置(112)抵消与支撑单元对的两个支撑单元(110.1、110.2)的支撑力的可指定比率的偏差。
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公开(公告)号：CN112384862A
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN201980044987.8
申请日：2019-06-25
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
摘要： 本发明涉及一种微光刻的组件，特别是使用极EUV范围(EUV)中的光，所述微光刻的组件包括用于支撑光学单元(106、107)的支撑结构(109)，所述光学单元的质量特别是等于4t至14t，优选地为5t至10t，更优选地为6t至8t。支撑结构(109)包括用于支撑光学单元(106、107)的多个分离的支撑单元(110.1、110.2、110.3、110.4)。支撑单元(110.1、110.2、110.3、110.4)中的每一个包括空气轴承单元(111.1、111.2、111.3、111.4)，通过空气轴承单元能够生成抵消光学单元(106、107)的重量的支撑力。支撑单元(110.1、110.2、110.3、110.4)的数目至少等于四个，其中，经由联接装置(112)联接支撑单元(110.1、110.2、110.3、110.4)中的至少两个以形成支撑单元对，使得联接装置(112)抵消与支撑单元对的两个支撑单元(110.1、110.2)的支撑力的可指定比率的偏差。
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公开(公告)号：CN104145205A
公开(公告)日：2014-11-12
申请号：CN201380011972.4
申请日：2013-01-23
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： G03F7/706 , G01K11/00 , G01M11/0242 , G01M11/0271 , G03F7/70141 , G03F7/70258 , G03F7/7085 , G03F7/70891
摘要： 一种微光刻的投射曝光设备(10)，包括测量投射曝光设备的光学元件的测量系统(50)。测量系统(50)包括：照射装置(54)，其构造成在不同方向(64)上将测量辐射(62)辐射至光学元件(20)，使得对于不同入射方向(64)，测量辐射(62)覆盖光学元件(20)内的相应光路长度(68)；检测装置(56)，其构造成对于相应入射方向(64)测量光学元件(20)中由测量辐射(62)覆盖的对应光学路径长度；以及评估装置，其构造成考虑相应入射方向，通过所测量路径长度的计算机断层反向投射确定光学元件(20)中的折射率的空间解析分布。
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公开(公告)号：CN111033384B
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN201880050254.0
申请日：2018-07-13
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及一种EUV辐射的光学布置(1)，其包括：至少一个反射式光学元件(16)，具有带有反射EUV辐射(33)的涂层(31)的主体(30)。至少一个屏蔽件(36)被装配到主体(30)的至少一个表面区域(35)，并且在光学布置(1)的操作期间保护至少一个表面区域(35)免受等离子体(H+、H*)的蚀刻效应，该等离子体围绕反射式光学元件(16)。屏蔽件(36)与主体(30)的表面区域(35)之间距离(A)小于周围等离子体(H+、H*)的德拜长度(λD)的两倍，优选地小于德拜长度(λD)。
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公开(公告)号：CN112513739A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201980049199.8
申请日：2019-05-16
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
摘要： 本发明涉及一种用于确定微光刻光学系统中的光学元件的加热状态的方法和设备，其中使用至少一个非接触传感器(330、430、531、532、533、534、631、632)，所述至少一个非接触传感器基于从所述光学元件(301、401、402、403、501、502、503、504、601)接收电磁辐射，并且其中，由所述传感器(330、430、531、532、533、534、631、632)捕获的辐射范围变化，以确定所述光学元件中的温度分布。
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公开(公告)号：CN104428647B
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201380036437.4
申请日：2013-06-19
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人： J.哈特杰斯
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G01B7/14 , G01B13/12 , G01L21/22 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70591
摘要： 公开了一种光刻设备(100)，包含：反射镜(200)，具有至少两个反射镜段(210)，所述至少两个反射镜段连接在一起，使得在所述反射镜段(210)之间形成空隙(214)；以及传感器(220，300)，用于检测所述反射镜段(210)的相对位置；其中，所述传感器(220，300)布置在所述反射镜段(210)之间的所述空隙(214)中。
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公开(公告)号：CN104145205B
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201380011972.4
申请日：2013-01-23
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： G03F7/706 , G01K11/00 , G01M11/0242 , G01M11/0271 , G03F7/70141 , G03F7/70258 , G03F7/7085 , G03F7/70891
摘要： 一种微光刻的投射曝光设备(10)，包括测量投射曝光设备的光学元件的测量系统(50)。测量系统(50)包括：照射装置(54)，其构造成在不同方向(64)上将测量辐射(62)辐射至光学元件(20)，使得对于不同入射方向(64)，测量辐射(62)覆盖光学元件(20)内的相应光路长度(68)；检测装置(56)，其构造成对于相应入射方向(64)测量光学元件(20)中由测量辐射(62)覆盖的对应光学路径长度；以及评估装置，其构造成考虑相应入射方向，通过所测量路径长度的计算机断层反向投射确定光学元件(20)中的折射率的空间解析分布。
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公开(公告)号：CN102804072A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201080062769.6
申请日：2010-12-13
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B7/1827 , G02B26/0833 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70116
摘要： 本发明涉及用于在微光刻中使用的分面反射镜（6；10）。分面反射镜（6；10）具有预定用于引导EUV照明光（3）的部分光束的照明通道的多个分面（7；11）。借由包括致动器（31；35）且具有运动分量（32；dz'；dz″）的调节装置（30；34），分面（7；11）的至少一些是可垂直于分面反射平面（xy；x'y'；x″y″）移动的。这导致在分面反射镜中，与现有技术相比，可以较低的制造成本实现与目标照明规格相符的给定要求，当使用分面反射镜时，该给定要求必须被满足。
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公开(公告)号：CN104487896B
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201380038040.9
申请日：2013-07-12
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
摘要： 一种用于微光刻的投射曝光设备(10)，包含形成曝光光束路径的多个光学组件(M1‑M6)，并且包含距离测量系统(30、130、230)，用于测量光学组件(M1‑M6)中的至少一个和参考元件(40、140、240)之间的距离。所述距离测量系统包含频率梳发生器(32、132、232)，其构造成产生具有梳状频谱的电磁辐射(36、236)。
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公开(公告)号：CN103814331B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201180073600.5
申请日：2011-09-21
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人： J.哈特杰斯
CPC分类号： G03F7/702 , G02B7/1815 , G02B26/0866 , G03F7/70216 , G03F7/70266 , G03F7/708 , G03F7/70891
摘要： 本发明涉及在微光刻投射曝光设备中热致动反射镜的布置，其中反射镜(901)具有光学有效表面(901a)和至少一个进入通道(910、910’)，至少一个进入通道(910、910’)在所述有效表面的方向上从该反射镜的不对应于光学有效表面的表面延伸，其中该布置设计为利用在进入通道(910)中传播的电磁辐射热致动反射镜(901)，其中该布置还具有至少一个热辐射装置，其产生在进入通道(910、910’)中传播的电磁辐射，以及其中热辐射装置可沿着进入通道(910、910’)致动。
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