发明授权
- 专利标题: 半导体器件及其制造方法
-
申请号: CN201310182466.3申请日: 2013-05-16
-
公开(公告)号: CN103996651B公开(公告)日: 2017-04-12
- 发明人: 杨士亿 , 李明翰 , 李香寰 , 吴宪昌
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹
- 代理机构: 北京德恒律治知识产权代理有限公司
- 代理商 章社杲; 孙征
- 优先权: 13/770,932 20130219 US
- 主分类号: H01L21/768
- IPC分类号: H01L21/768 ; H01L23/532
摘要:
本发明公开了一种半导体器件及其制造方法。在一个实施例中,制造半导体器件的方法包括:提供包括形成在第一绝缘材料中的导电部件和设置在第一绝缘材料上方的第二绝缘材料的工件。第二绝缘材料具有在导电部件上方的开口。该方法包括:在第二导电材料中的开口内的导电部件的暴露顶面上方形成基于石墨烯的导电层,并且在第二绝缘材料中的开口的侧壁上方形成基于碳的粘合层。在图案化第二绝缘材料中的基于石墨烯的导电层和基于碳的粘合层上方形成碳纳米管(CNT)。
公开/授权文献
- CN103996651A 半导体器件及其制造方法 公开/授权日:2014-08-20
IPC分类: