发明授权
CN104282624B 阵列基板及其制备方法、显示装置
失效 - 权利终止
- 专利标题： 阵列基板及其制备方法、显示装置
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申请号： CN201410601808.5申请日： 2014-10-31
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公开(公告)号： CN104282624B公开(公告)日： 2018-06-08
- 发明人: 刘冲 , 赵海生 , 马海涛 , 肖红玺 , 彭志龙 , 刘还平
- 申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构： 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 柴亮; 张天舒
- 主分类号： H01L21/82
- IPC分类号： H01L21/82 ; H01L27/12
摘要：
本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域，本发明的阵列基板的制备方法，其包括如下步骤：在基底上方，依次沉积第一透明导电薄膜和源漏金属薄膜；通过构图工艺形成包括源漏金属图案的图形；通过构图工艺形成包括像素电极，以及位于源漏金属图案下方的修复结构的图形。本发明的阵列基板是通过上述制备方法制备的。本发明的显示装置包括该阵列基板。
公开/授权文献
- CN104282624A 阵列基板及其制备方法、显示装置 公开/授权日：2015-01-14
IPC分类:
