溅射装置具备具有磁铁的3个靶，磁铁(7a、7b、7c)的每一个被控制成进行从顺方向的行程端向逆方向移动后停止的第1移动、从第1移动后的停止位置移动到逆方向的逆方向的行程端后停止的第2移动、和从逆方向的行程端移动到顺方向的行程端后停止的第3移动。并且，成膜时被控制成，第1移动的期间形成于基板的第1膜、第2移动的期间形成于基板的第2膜、和第3移动的期间形成于基板的第3膜由各不相同的靶(4a、4b、4c)成膜，而且第1、第2、第3膜在基板上重叠。