- 专利标题: 带有沟槽‑氧化物‑纳米管超级结的器件结构及制备方法
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申请号: CN201410765884.X申请日: 2011-02-28
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公开(公告)号: CN104377238B公开(公告)日: 2017-04-12
- 发明人: 哈姆扎·依玛兹 , 马督儿·博德 , 李亦衡 , 管灵鹏 , 王晓彬 , 陈军 , 安荷·叭剌
- 申请人: 万国半导体股份有限公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚桑尼维尔奥克米德公园道475
- 专利权人: 万国半导体股份有限公司
- 当前专利权人: 万国半导体国际有限合伙公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚桑尼维尔奥克米德公园道475
- 代理机构: 上海信好专利代理事务所
- 代理商 张静洁; 包姝晴
- 优先权: 12/661,004 20100305 US
- 主分类号: H01L29/739
- IPC分类号: H01L29/739 ; H01L29/06 ; H01L21/336
摘要:
本发明提出了一种沉积在第一导电类型的半导体衬底上的半导体功率器件。该半导体衬底承载着一个第二导电类型的外延层,其中半导体功率器件就位于超级结结构上。该超级结结构包含从外延层中的顶面上打开的多个沟槽;其中每个沟槽的沟槽侧壁都用第一导电类型的第一外延层覆盖,以便中和第二导电类型的外延层的电荷。第二外延层可以生长在第一外延层上方。每个沟槽都在一个剩余的沟槽缝隙空间内,用非掺杂的电介质材料填充。每个沟槽侧壁都带有一个倾斜角,以构成会聚的U‑型沟槽。
公开/授权文献
- CN104377238A 带有沟槽-氧化物-纳米管超级结的器件结构及制备方法 公开/授权日:2015-02-25
IPC分类: