- 专利标题: 载台升降装置、反应腔室及等离子体加工设备
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申请号: CN201310431952.4申请日: 2013-09-18
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公开(公告)号: CN104451586B公开(公告)日: 2017-02-08
- 发明人: 吕峰
- 申请人: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
- 申请人地址: 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
- 专利权人: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
- 当前专利权人: 北京北方华创微电子装备有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 彭瑞欣; 张天舒
- 主分类号: C23C14/50
- IPC分类号: C23C14/50 ; C23C16/458 ; C23F4/00
摘要:
本发明提供的载台升降装置、反应腔室及等离子体加工设备,其中:托架驱动源用于驱动轴提升托架作升降运动;波纹管轴穿过轴提升托架与其固定连接;轴提升托架具有安装通孔;波纹管轴上端与载台连接,波纹管轴下端沿竖直方向贯穿腔室壁,且依次穿过直线轴承和安装通孔,并且波纹管轴与直线轴承在竖直方向上滚动配合,波纹管轴与安装通孔间隙配合;在托架驱动源的驱动下,轴提升托架带动波纹管轴在直线轴承内作升降运动,继而实现固定于波纹管轴上的载台的升降运动;轴向定位件用于阻挡轴提升托架与波纹管轴在竖直方向上的相对运动。本发明提供的载台升降装置无需对相应部件的加工精度和装配精度提出较高的要求就可以保证载台的上表面的水平度。
公开/授权文献
- CN104451586A 载台升降装置、反应腔室及等离子体加工设备 公开/授权日:2015-03-25
IPC分类: