静电吸附掩模板及其制作方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118880232A

    公开(公告)日:2024-11-01

    申请号:CN202410903414.9

    申请日:2024-07-08

    发明人: 刘成元 吕迅

    摘要: 本发明公开了一种静电吸附掩模板及其制作方法,所述制作方法包括:提供基板;在所述基板上形成第一金属层;在所述第一金属层表面形成图案化的隔离层;形成第三金属层,所述第三金属层覆盖所述图案化的隔离层和第一金属层;刻蚀覆盖隔离层位置的第三金属层,形成沟槽,所述覆盖隔离层位置的剩余的第三金属层构成静电吸附导电层;刻蚀所述第三金属层与所述第一金属层的叠层,形成掩模图案的通孔,所述隔离层侧壁的第三金属层和所述隔离层下方的第一金属层构成静电屏蔽导电层;去除所述掩模图案区域的基板。本发明提供的静电吸附掩模板在使用过程中,电力线无法影响气相沉积材料的分子轨迹,以增加薄膜沉积质量,降低堵孔风险。

    一种钨棒化丝方法及化丝装置

    公开(公告)号:CN118371554B

    公开(公告)日:2024-09-24

    申请号:CN202410805692.0

    申请日:2024-06-21

    摘要: 本发明公开了一种钨棒化丝方法及化丝装置,包括:对钨棒原材料进行检测和筛选,检测钨棒原材料的纯度和均质性;对钨棒进行旋锻处理;对钨棒进行加热处理,加热时注入保护气体;将钨棒浸入熔融状态的化学试剂中进行腐蚀处理,化学试剂优选亚硝酸钾;对钨棒进行拉丝处理,拉丝时进行保温与润滑处理,钨棒形成丝胚;对丝胚进行退火与表面处理,丝胚形成钨丝;对钨丝表面进行清洗处理;对钨丝进行密封处理,本发明的有益效果是:对钨棒进行旋锻处理后,提升了钨棒表面的均匀性,使钨棒的直径更加接近钨丝的直径,因此,对钨棒进行腐蚀处理时,更易控制钨棒的腐蚀程度,提升了钨棒腐蚀的均匀性,从而提升了钨棒化丝的合格率。

    一种钨棒化丝方法及化丝装置

    公开(公告)号:CN118371554A

    公开(公告)日:2024-07-23

    申请号:CN202410805692.0

    申请日:2024-06-21

    摘要: 本发明公开了一种钨棒化丝方法及化丝装置,包括:对钨棒原材料进行检测和筛选,检测钨棒原材料的纯度和均质性;对钨棒进行旋锻处理;对钨棒进行加热处理,加热时注入保护气体;将钨棒浸入熔融状态的化学试剂中进行腐蚀处理,化学试剂优选亚硝酸钾;对钨棒进行拉丝处理,拉丝时进行保温与润滑处理,钨棒形成丝胚;对丝胚进行退火与表面处理,丝胚形成钨丝;对钨丝表面进行清洗处理;对钨丝进行密封处理,本发明的有益效果是:对钨棒进行旋锻处理后,提升了钨棒表面的均匀性,使钨棒的直径更加接近钨丝的直径,因此,对钨棒进行腐蚀处理时,更易控制钨棒的腐蚀程度,提升了钨棒腐蚀的均匀性,从而提升了钨棒化丝的合格率。

    一种网状结构的非晶纳米晶合金及其制备方法、应用

    公开(公告)号:CN114561644B

    公开(公告)日:2024-04-23

    申请号:CN202210170612.X

    申请日:2022-02-24

    IPC分类号: C23F4/00 C22C45/00 C22C1/11

    摘要: 本发明涉及一种网状结构的非晶纳米晶合金及其制备方法、应用,其制备方法,包括以下步骤:(1)将厚度小于50μm的非晶合金样品固定在离子减薄仪的支架上;(2)调整离子减薄仪的左、右离子枪的角度,在第一目标电压下对样品进行预处理第一目标时长;(3)减小左、右离子枪角度,降低施加电压至第二目标电压,在第二目标电压下对经过步骤(2)处理得到的样品进行处理第二目标时长,得到具有网状结构的非晶纳米晶合金。本发明采用离子减薄仪设备摆脱了高温对非晶合金样品的影响,可以有效解决非晶合金退火脆性对工业化应用的限制;其次,本发明制得的非晶纳米晶合金的纳米晶均匀分散在非晶骨架中,可得到更高的饱和磁感应强度和磁导率。

    一种真空器皿内壁电解质等离子抛光装置及抛光方法

    公开(公告)号:CN117758270A

    公开(公告)日:2024-03-26

    申请号:CN202311719909.8

    申请日:2023-12-14

    IPC分类号: C23F4/00

    摘要: 本发明涉及电解质等离子抛光设备技术领域,尤其涉及一种真空器皿内壁电解质等离子抛光装置及抛光方法,该真空器皿内壁电解质等离子抛光装置,包括电解槽和设置在电解槽内的多个阴极棒,所述电解槽还设置有加热管,所述电解槽上设置有抛光机构,所述抛光机构包括升降结构、往复结构和夹持结构,所述往复结构安装在升降结构上,所述夹持结构装配在往复结构上,所述往复结构用于带动夹持结构沿往复结构往复移动,所述夹持结构用于自动夹紧以及松开真空器皿的外壳。其目的在于,在抛光过程中,能够连续对真空器皿的内壁进行电解质等离子抛光,方便、快捷,有利于真空器皿的大批量抛光。

    一种金属板表面处理用等离子抛光设备

    公开(公告)号:CN117305845A

    公开(公告)日:2023-12-29

    申请号:CN202311069619.3

    申请日:2023-08-23

    发明人: 余显鹏

    IPC分类号: C23F4/00

    摘要: 本发明公开了一种金属板表面处理用等离子抛光设备,包括电解池,所述电解池顶面固接机壳,所述机壳一侧转动连接密封门,所述密封门上固接玻璃视窗,所述机壳顶面连通排气管,所述机壳内部设置有夹具部件,所述机壳顶面固定嵌接升降部件,所述电解池内部底面设置有循环部件,所述夹具部件包括框体,所述框体底面四角固接四个短支块。本发明夹具部件采用支撑组件固定金属板工件,在整个抛光过程中,安装支撑组件的第一滑套和第二滑套不断交替平移,这样支撑组件的遮挡位置不断改变,可以使得金属板工件各个位置均可进行等离子抛光,不会出现遮挡导致抛光出现盲区的情况,无需进行二次抛光,不会产生浪费,同时效率也更高。

    一种激光高透曲面屏蔽玻璃制备方法及屏蔽玻璃

    公开(公告)号:CN114561615B

    公开(公告)日:2023-12-12

    申请号:CN202210192574.8

    申请日:2022-02-28

    摘要: 本发明属于屏蔽玻璃技术领域,具体涉及一种激光高透曲面屏蔽玻璃制备方法及屏蔽玻璃,包括以下步骤:S1、对内表面具备金属网栅结构的曲面玻璃的中部进行遮挡,在其内表面沉积金靶材形成金属膜层,使其与金属网栅形成良好的电连接性能;S2、在S1沉积金靶材的曲面玻璃内外表面,交替沉积折射率不同的电介质靶材,形成减反增透膜层。本发明对于金属在导引头曲面罩的应用具有重大意义。特别是军用导引系统在瞄准、制导中的应用越来越广泛,如能在保证红外高透光率前赋予其高屏蔽效能,必将大大提高导弹的精准制导,在保障红外探测精准度,抵御强电磁信号的干扰以及潜在的高功率微波武器攻击等方面,具有重要的实践作用。

    一种三重仿生集雾表面的制备方法

    公开(公告)号:CN117051397A

    公开(公告)日:2023-11-14

    申请号:CN202310971629.X

    申请日:2023-08-03

    申请人: 燕山大学

    IPC分类号: C23F4/00 B23K26/352

    摘要: 本发明公开了一种三重仿生集雾表面的制备方法,属于金属铜泡沫表面润湿改性技术领域,包括对铜泡沫的表面进行预处理;对预处理后的所述铜泡沫的第一表面的第一预设位置上进行第一次激光加工获得第一条纹结构;在所述铜泡沫的第一表面的第二预设位置上进行第二次激光加工获得第二条纹结构;所述第一条纹结构和所述第二条纹结构形成多个交叉点,所述多个交叉点在所述铜泡沫的第二表面形成多个正方形超亲水位点;所述第一表面和所述第二表面分别为所述铜泡沫的上表面和下表面;得到三重仿生集雾表面。本发明制备的三重仿生集雾表面具有优异的雾收集能力。