发明授权
- 专利标题: 具有降低的反馈电容的IGBT
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申请号: CN201410514781.6申请日: 2014-09-29
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公开(公告)号: CN104518017B公开(公告)日: 2018-06-15
- 发明人: C·P·桑道 , H-J·舒尔策 , J·G·拉文 , F·J·涅德诺斯塞德 , F·D·普菲尔施 , H-P·菲尔斯尔
- 申请人: 英飞凌科技股份有限公司
- 申请人地址: 德国诺伊比贝尔格
- 专利权人: 英飞凌科技股份有限公司
- 当前专利权人: 英飞凌科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 德国诺伊比贝尔格
- 代理机构: 北京市金杜律师事务所
- 代理商 王茂华
- 优先权: 14/041,094 2013.09.30 US
- 主分类号: H01L29/739
- IPC分类号: H01L29/739
摘要:
一种IGBT包括至少一个第一类晶体管单元,该第一类晶体管单元包括基区、第一发射区、体区和第二发射区。体区被布置在第一发射区与基区之间。基区被布置在体区与第二发射区之间。IGBT还包括毗邻体区且通过栅极电介质与体区介电绝缘的栅电极以及毗邻基区且通过基电极电介质与基区介电绝缘的基电极。基区具有邻接基电极电介质的第一基区部分和被布置在第二发射区与第一基区部分之间的第二基区部分。第一基区部分的掺杂浓度比第二基区部分的掺杂浓度高。
公开/授权文献
- CN104518017A 具有降低的反馈电容的IGBT 公开/授权日:2015-04-15
IPC分类: