发明公开
- 专利标题: 辐射系统和光刻设备
- 专利标题(英): Radiation system and lithographic apparatus
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申请号: CN201510142259.4申请日: 2009-04-30
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公开(公告)号: CN104714374A公开(公告)日: 2015-06-17
- 发明人: V·Y·班尼恩 , E·R·鲁普斯特拉 , V·V·伊万诺夫 , V·M·克里夫特逊
- 申请人: ASML荷兰有限公司
- 申请人地址: 荷兰维德霍温
- 专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰维德霍温
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 胡良均
- 优先权: 61/136,494 2008.09.09 US; 61/136,833 2008.10.07 US
- 分案原申请号: 2009801348298 2009.04.30
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20 ; H05G2/00
摘要:
一种辐射系统,配置成产生辐射束。所述辐射系统包括:辐射源(50),配置成产生发射辐射和碎片的等离子体;辐射收集器(70),配置成引导所收集的辐射至辐射束发射孔(60)。磁场产生装置(200)配置成产生具有磁场强度梯度的磁场,以将等离子体引导离开辐射收集器(70)。
IPC分类: