- 专利标题: 高能量离子注入装置、射束平行化器及射束平行化方法
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申请号: CN201510069271.7申请日: 2015-02-10
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公开(公告)号: CN104835710B公开(公告)日: 2018-01-16
- 发明人: 加藤浩二 , 天野吉隆
- 申请人: 斯伊恩股份有限公司
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 斯伊恩股份有限公司
- 当前专利权人: 斯伊恩股份有限公司
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 夏斌
- 优先权: 2014-023531 2014.02.10 JP
- 主分类号: H01J37/317
- IPC分类号: H01J37/317 ; H01J37/08
摘要:
本发明提供高能量离子注入装置、射束平行化器及射束平行化方法,适于高能量离子注入装置。射束平行化器(300)具备多个透镜部(310、312),沿着基准轨道排列,以在射束平行化器的出口生成相对于基准轨道被平行化的射束。多个透镜部分别构成为,形成弓形弯曲间隙,并且通过施加于弓形弯曲间隙的电场来改变射束行进方向相对于基准轨道所成的角度。空间部(322、324)设置于多个透镜部中的一个透镜部和与该透镜部相邻的透镜部之间。空间部朝向被平行化的射束的与基准轨道垂直的剖面的短边方向。包括基准轨道在内的内侧区域通过空间部与多个透镜部的外侧区域连接。
公开/授权文献
- CN104835710A 高能量离子注入装置、射束平行化器及射束平行化方法 公开/授权日:2015-08-12