高能量离子注入装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104183469B

    公开(公告)日:2018-06-19

    申请号:CN201410171492.0

    申请日:2014-04-25

    Abstract: 本发明提供一种高能量离子注入装置,精度良好地将已扫描的高能量离子束平行化。本发明的高能量离子注入装置具备:射束生成单元,具有离子源和质量分析装置;高能量多段直线加速单元;高能量射束的偏转单元,将高能量离子束朝向晶片进行方向转换;及射束传输线单元,将已偏转的高能量离子束传输到晶片。射束传输线单元具有射束整形器、高能量用射束扫描器、高能量用射束平行化器及高能量用最终能量过滤器。并且,高能量用射束平行化器为通过电场重复高能量射束的加速和减速并且将扫描束平行化的电场式射束平行化器。

    高能量离子注入装置、射束平行化器及射束平行化方法

    公开(公告)号:CN104835710B

    公开(公告)日:2018-01-16

    申请号:CN201510069271.7

    申请日:2015-02-10

    Abstract: 本发明提供高能量离子注入装置、射束平行化器及射束平行化方法,适于高能量离子注入装置。射束平行化器(300)具备多个透镜部(310、312),沿着基准轨道排列,以在射束平行化器的出口生成相对于基准轨道被平行化的射束。多个透镜部分别构成为,形成弓形弯曲间隙,并且通过施加于弓形弯曲间隙的电场来改变射束行进方向相对于基准轨道所成的角度。空间部(322、324)设置于多个透镜部中的一个透镜部和与该透镜部相邻的透镜部之间。空间部朝向被平行化的射束的与基准轨道垂直的剖面的短边方向。包括基准轨道在内的内侧区域通过空间部与多个透镜部的外侧区域连接。

    高能量离子注入装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104183469A

    公开(公告)日:2014-12-03

    申请号:CN201410171492.0

    申请日:2014-04-25

    Abstract: 本发明提供一种高能量离子注入装置,精度良好地将已扫描的高能量离子束平行化。本发明的高能量离子注入装置具备:射束生成单元,具有离子源和质量分析装置;高能量多段直线加速单元;高能量射束的偏转单元,将高能量离子束朝向晶片进行方向转换;及射束传输线单元,将已偏转的高能量离子束传输到晶片。射束传输线单元具有射束整形器、高能量用射束扫描器、高能量用射束平行化器及高能量用最终能量过滤器。并且,高能量用射束平行化器为通过电场重复高能量射束的加速和减速并且将扫描束平行化的电场式射束平行化器。

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