本发明提供一种保持装置和真空处理装置。不向真空环境中排出粘附衬垫的排出气体地对保持对象物进行真空处理。在保持装置（11）的真空容器（15）的内部设置粘附衬垫（17），在将保持对象物（5）粘附保持的状态下，向配置在真空容器（15）的边缘上的接触部（18）按压，使真空容器（15）的内部空间（25）从外部空间（26）分离。预先将真空容器（15）的内部空间（25）从设置在真空容器（15）上的排气孔（14）真空排气，当进行真空处理时，使排气孔（14）成为气体不穿过的状态，使得来自粘附衬垫（17）的排出气体不排出到对保持对象物（5）进行真空处理的环境内。