半导体用接合线
摘要:
本发明提供即使对于镀钯的引线框也能够确保良好的楔接合性、耐氧化性优异的以铜或铜合金为芯线的半导体用接合线。根据一个实施方式的半导体用接合线,其特征在于,具有:由铜或铜合金构成的芯线;形成于该芯线的表面的具有10~200nm的厚度的含有钯的被覆层;和形成于该被覆层的表面的具有1~80nm的厚度的含有金和钯的合金层,所述合金层中的金的浓度为10体积%~75体积%,在测定接合线表面的结晶取向所得到的测定结果中,相对于拉丝方向的倾斜为15度以下的结晶取向 的晶粒的面积比为40%~100%。
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