发明公开
- 专利标题: 半导体用接合线
- 专利标题(英): Bonding wire for semiconductor
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申请号: CN201510431505.8申请日: 2010-07-16
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公开(公告)号: CN105023902A公开(公告)日: 2015-11-04
- 发明人: 寺岛晋一 , 宇野智裕 , 山田隆 , 小田大造
- 申请人: 新日铁住金高新材料株式会社 , 日铁住金新材料股份有限公司
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 新日铁住金高新材料株式会社,日铁住金新材料股份有限公司
- 当前专利权人: 新日铁住金高新材料株式会社,日铁新材料股份有限公司
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 刘瑞东; 段承恩
- 优先权: 2009-177315 2009.07.30 JP; 2009-226464 2009.09.30 JP
- 分案原申请号: 2010800191916 2010.07.16
- 主分类号: H01L23/49
- IPC分类号: H01L23/49 ; H01L21/60 ; C22C5/02
摘要:
本发明提供即使对于镀钯的引线框也能够确保良好的楔接合性、耐氧化性优异的以铜或铜合金为芯线的半导体用接合线。根据一个实施方式的半导体用接合线,其特征在于,具有:由铜或铜合金构成的芯线;形成于该芯线的表面的具有10~200nm的厚度的含有钯的被覆层;和形成于该被覆层的表面的具有1~80nm的厚度的含有金和钯的合金层,所述合金层中的金的浓度为10体积%~75体积%,在测定接合线表面的结晶取向所得到的测定结果中,相对于拉丝方向的倾斜为15度以下的结晶取向 的晶粒的面积比为40%~100%。
公开/授权文献
- CN105023902B 半导体用接合线 公开/授权日:2018-01-30
IPC分类: