发明公开
- 专利标题: 成膜掩模的制造方法
- 专利标题(英): Method for producing film formation mask
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申请号: CN201480014059.4申请日: 2014-02-17
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公开(公告)号: CN105051243A公开(公告)日: 2015-11-11
- 发明人: 斋藤雄二 , 工藤修二 , 小菅崇之 , 水村通伸
- 申请人: 株式会社V技术
- 申请人地址: 日本神奈川县
- 专利权人: 株式会社V技术
- 当前专利权人: 株式会社V技术
- 当前专利权人地址: 日本神奈川县
- 代理机构: 北京市隆安律师事务所
- 代理商 权鲜枝
- 优先权: 2013-053207 2013.03.15 JP
- 国际申请: PCT/JP2014/053614 2014.02.17
- 国际公布: WO2014/141816 JA 2014.09.18
- 进入国家日期: 2015-09-11
- 主分类号: C23C14/04
- IPC分类号: C23C14/04
摘要:
本发明是将形成了多个开口图案的金属掩模片(4)张紧而固定于框状的金属框架7上的结构的成膜掩模的制造方法,进行如下步骤:第1步骤,在被施加一定张力的合成纤维的网(1)上粘接金属掩模片(4)的周缘部;第2步骤,将与金属掩模片(4)的内含多个开口图案的大小的成膜有效区域对应的网(1)的部分切除;第3步骤,在金属掩模片(4)的周缘部从与网(1)相反的一侧接合、固定框架(7);以及第4步骤,将网(1)从金属掩模片(4)除去。
公开/授权文献
- CN105051243B 成膜掩模的制造方法 公开/授权日:2017-06-23
IPC分类: