Invention Publication
- Patent Title: 硬掩模组合物和使用所述硬掩模组合物形成图案的方法
- Patent Title (English): HARDMASK COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERNS USING THE HARDMASK COMPOSITION
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Application No.: CN201510046738.6Application Date: 2015-01-29
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Publication No.: CN105093833APublication Date: 2015-11-25
- Inventor: 崔有廷 , 金润俊 , 金永珉 , 文俊怜 , 朴裕信 , 宋炫知 , 尹龙云 , 李忠宪
- Applicant: 三星SDI株式会社
- Applicant Address: 韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号
- Assignee: 三星SDI株式会社
- Current Assignee: 三星SDI株式会社
- Current Assignee Address: 韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号
- Agency: 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- Agent 马爽; 臧建明
- Priority: 10-2014-0059253 2014.05.16 KR; 10-2014-0164605 2014.11.24 KR
- Main IPC: G03F7/09
- IPC: G03F7/09 ; G03F7/00
Abstract:
本发明提供了一种硬掩模组合物和使用所述硬掩模组合物形成图案的方法，所述硬掩模组合物包括聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。本发明的硬掩模组合物能满足耐蚀刻性，同时确保对于溶剂的可溶性、间隙填充特征以及平面化特征。[化学式1]在以上化学式1中，M1、M2、a以及b与具体实施方式中所定义相同。
Public/Granted literature
- CN105093833B 硬掩模组合物和使用所述硬掩模组合物形成图案的方法 Public/Granted day:2019-09-06
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