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公开(公告)号：CN105093833B
公开(公告)日：2019-09-06
申请号：CN201510046738.6
申请日：2015-01-29
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供了一种硬掩模组合物和使用所述硬掩模组合物形成图案的方法，所述硬掩模组合物包括聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。本发明的硬掩模组合物能满足耐蚀刻性，同时确保对于溶剂的可溶性、间隙填充特征以及平面化特征。[化学式1]在以上化学式1中，M1、M2、a以及b与具体实施方式中所定义相同。
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公开(公告)号：CN109923451B
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN201780067419.0
申请日：2017-09-27
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: G02B5/30 , G02B1/14 , G02B1/11 , G02F1/1335
Abstract: 提供一种偏光板与包含其的液晶显示器，其中所述偏光板包括：依序层压的偏光片、对比率改善膜、黏合层、及抗反射膜，所述对比率改善膜包括第一保护层、及彼此相对的第一树脂层以及第二树脂层，所述第一树脂层在面向所述第二树脂层的一个表面上包括具有平坦区段的图案部分的光学图案，且所述黏合层具有为约5％至约40％的雾度。
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公开(公告)号：CN106610567B
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201610860457.9
申请日：2016-09-28
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种产生层结构以及形成图案的方法。所述产生层结构的方法包含在具有多个图案的衬底上涂布第一组合物且将其固化以形成第一有机层(S1)；施用液体材料到第一有机层以去除第一有机层的一部分(S2)；以及在部分去除的第一有机层上涂布第二组合物且将其固化以形成第二有机层(S3)，其中第一组合物和第二组合物独立地为包含由化学式1表示的结构单元和溶剂的聚合物。本发明不使用特定回蚀或化学机械抛光工艺却可显示极好的平坦化特征，且通过使用预定聚合物作为层材料，显示改进的耐蚀刻性的产生层结构。在化学式1中，A1、B1以及*与具体实施方式中所定义相同。
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公开(公告)号：CN106336372B
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201610457786.9
申请日：2016-06-22
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C07D209/12 , C07D209/60 , C07D209/86 , C07D311/82 , C07D333/56 , G03F1/46 , G03F1/56
Abstract: 本发明提供一种单体、包含所述单体的有机层组合物、使用所述有机层组合物制造的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。本发明的单体由化学式1表示，化学式1与具体实施方式中所定义的相同。本发明的单体具有良好的溶解度特征以及优良的耐蚀刻性和耐热性，使用所述单体制造的有机层具有优良的机械特征和膜表面平整度。[化学式1]
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公开(公告)号：CN105575775B
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201510426921.9
申请日：2015-07-20
Applicant: 三星SDI株式会社
Inventor： 金旼秀 , 宋炫知 , 姜善惠 , 金成旻 , 金瑆焕 , 金永珉 , 金润俊 , 金惠廷 , 南沇希 , 白载烈 , 尹星莉 , 尹龙云 , 李忠宪 , 郑瑟基 , 赵妍熹 , 洪承希 , 黄善民 , 黄元宗 , 李松世 , 金命九 , 刘奈莉
IPC: H01L21/027 , H01L21/308 , G03F1/46 , G03F1/76 , G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种层结构及制造其的方法、形成图案的方法以及半导体装置，其中，制造层结构的方法包含通过将包含第一有机化合物的第一组合物涂覆到具有多个图案的衬底上形成第一有机层(S1)；将溶剂涂覆到第一有机层上以去除第一有机层的一部分(S2)；以及将包含第二有机化合物的第二组合物涂覆到其中的一部分被去除的第一有机层上并且经由固化过程形成第二有机层(S3)；从而可制造具有卓越平坦化特征的层结构，且无需单独的回蚀刻制程或化学机械抛光制程。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118689035A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202410317231.9
申请日：2024-03-20
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 公开一种硬掩模组合物、包含所述硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层以及使用从所述硬掩模组合物制造出的硬掩模层来形成图案的方法。所述硬掩模组合物包含：聚合物，包括由化学式1表示的结构单元；以及溶剂，[化学式1]#imgabs0#
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公开(公告)号：CN111378084B
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN201911356022.0
申请日：2019-12-25
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开一种聚合物、一种包含聚合物的硬掩模组合物以及一种使用硬掩模组合物来形成图案的方法，聚合物包含通过反应混合物的反应获得的结构单元，反应混合物包含：经取代或未经取代的吲哚或其衍生物；在末端处具有经取代或未经取代的C3到C20支链烷基的第一芳香族醛化合物；以及与第一芳香族醛化合物不同的第二芳香族醛化合物。
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公开(公告)号：CN105575775A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201510426921.9
申请日：2015-07-20
Applicant: 三星SDI株式会社
Inventor： 金旼秀 , 宋炫知 , 姜善惠 , 金成旻 , 金瑆焕 , 金永珉 , 金润俊 , 金惠廷 , 南沇希 , 白载烈 , 尹星莉 , 尹龙云 , 李忠宪 , 郑瑟基 , 赵妍熹 , 洪承希 , 黄善民 , 黄元宗 , 李松世 , 金命九 , 刘奈莉
IPC: H01L21/027 , H01L21/308 , G03F1/46 , G03F1/76 , G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种层结构及制造其的方法、形成图案的方法以及半导体装置，其中，制造层结构的方法包含通过将包含第一有机化合物的第一组合物涂覆到具有多个图案的衬底上形成第一有机层(S1)；将溶剂涂覆到第一有机层上以去除第一有机层的一部分(S2)；以及将包含第二有机化合物的第二组合物涂覆到其中的一部分被去除的第一有机层上并且经由固化过程形成第二有机层(S3)；从而可制造具有卓越平坦化特征的层结构，且无需单独的回蚀刻制程或化学机械抛光制程。
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公开(公告)号：CN105093833A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201510046738.6
申请日：2015-01-29
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供了一种硬掩模组合物和使用所述硬掩模组合物形成图案的方法，所述硬掩模组合物包括聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。本发明的硬掩模组合物能满足耐蚀刻性，同时确保对于溶剂的可溶性、间隙填充特征以及平面化特征。[化学式1]在以上化学式1中，M1、M2、a以及b与具体实施方式中所定义相同。
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公开(公告)号：CN111378084A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201911356022.0
申请日：2019-12-25
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开一种聚合物、一种包含聚合物的硬掩模组合物以及一种使用硬掩模组合物来形成图案的方法，聚合物包含通过反应混合物的反应获得的结构单元，反应混合物包含：经取代或未经取代的吲哚或其衍生物；在末端处具有经取代或未经取代的C3到C20支链烷基的第一芳香族醛化合物；以及与第一芳香族醛化合物不同的第二芳香族醛化合物。
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