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公开(公告)号：CN113396364A
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN202080012809.X
申请日：2020-03-23
申请人： 三星SDI株式会社
摘要： 本发明是有关于一种抗蚀剂底层组成物及一种使用所述组成物形成图案的方法。根据实施例，所述抗蚀剂底层组成物包含：聚合物，包括在末端处由化学式1表示的结构以及在主链中由化学式2表示的结构单元及由化学式3表示的结构单元；以及溶剂。化学式1至化学式3的定义与详细说明中所述的相同。
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公开(公告)号：CN105884685B
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201511020947.X
申请日：2015-12-30
申请人： 三星SDI株式会社
IPC分类号： C07D215/14 , C07C39/12 , C07D311/58 , C07C39/14 , G03F7/16
摘要： 本发明公开一种单体、包含所述单体的有机层组合物、由所述有机层组合物制成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。本发明的单体由化学式1表示，化学式1与具体实施方式中所定义的相同。该单体具有改善的耐蚀刻性和溶解性特征，因此适用于旋涂法。
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公开(公告)号：CN105093833A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201510046738.6
申请日：2015-01-29
申请人： 三星SDI株式会社
摘要： 本发明提供了一种硬掩模组合物和使用所述硬掩模组合物形成图案的方法，所述硬掩模组合物包括聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。本发明的硬掩模组合物能满足耐蚀刻性，同时确保对于溶剂的可溶性、间隙填充特征以及平面化特征。[化学式1]在以上化学式1中，M1、M2、a以及b与具体实施方式中所定义相同。
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公开(公告)号：CN108431691B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201680072484.8
申请日：2016-09-22
申请人： 三星SDI株式会社
摘要： 本发明揭示一种有机膜组合物及使用所述有机膜组合物形成图案的方法，有机膜组合物包含有包含由化学式1表示的结构单元的聚合物、由化学式2表示的添加剂以及溶剂。化学式1及化学式2与实施方式中所定义相同。本发明的有机膜组合物能够改良间隙填充特征及平面化特征以及抗蚀刻性。
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公开(公告)号：CN105093834B
公开(公告)日：2020-03-13
申请号：CN201510136947.X
申请日：2015-03-26
申请人： 三星SDI株式会社
摘要： 本发明提供一种硬掩模组成物和使用所述硬掩模组成物形成图案的方法。所述硬掩模组成物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。[化学式1]＊‑A‑B‑＊在所述化学式1中，A和B与具体实施方式中所定义的相同。本发明提供的硬掩模组成物能确保溶剂的可溶性、间隙填充特性和平坦化特性并满足耐热性和耐蚀刻性。
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公开(公告)号：CN110879508B
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN201910837249.0
申请日：2019-09-05
申请人： 三星SDI株式会社
摘要： 本发明公开一种抗蚀剂垫层组合物和使用抗蚀剂垫层组合物形成图案的方法，所述组合物包含：聚合物，包含由化学式1‑1表示的第一部分和由化学式1‑2表示的第二部分中的至少一者；热酸产生剂，包含由酸衍生的阴离子和衍生自pKa大于或等于7的碱的阳离子构成的盐；以及溶剂：化学式1‑1到化学式1‑2的定义与具体实施方式中所描述的定义相同。[化学式1‑1][化学式1‑2]
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