发明授权
- 专利标题: 一种避免光刻机镜头过热的方法
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申请号: CN201510489028.0申请日: 2015-08-11
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公开(公告)号: CN105093850B公开(公告)日: 2017-06-23
- 发明人: 阚欢 , 魏芳 , 朱骏 , 吕煜坤 , 张旭昇
- 申请人: 上海华力微电子有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
- 专利权人: 上海华力微电子有限公司
- 当前专利权人: 上海华力微电子有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
- 代理机构: 上海天辰知识产权代理事务所
- 代理商 吴世华; 陈慧弘
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20 ; G03F1/70
摘要:
本发明公开了一种避免光刻机镜头过热的方法,提供若干在掩膜板的透光区域进行待填充的虚拟图形的结构;然后对测试掩膜版进行设计和制造,并进行光刻实验,根据光刻实验数据确定虚拟图形的形状和尺寸;接着进行芯片版图设计;再接着将芯片版图按照边长为A的正方形分成若干窗格,分析各窗格的透光率并确定各窗格中虚拟图形的填充量;然后对芯片掩膜版进行填充,在各窗格中填充预设形状、尺寸以及数量的虚拟图形;最后制造芯片掩膜版,并通过芯片掩膜板进行曝光工艺。本发明通过在掩膜板上填充不会再芯片上成像的虚拟图形,以降低掩膜板的透光区域面积占整个曝光单元面积的比例,减少了光刻机镜头吸收的能量,降低了连续曝光后镜头升高的温度。
公开/授权文献
- CN105093850A 一种避免光刻机镜头过热的方法 公开/授权日:2015-11-25