本发明的用于自动研磨抛光机的研磨抛光装置，包括修盘环和载样盘，所述修盘环为上下分离式结构，上修盘环的重量小于所述下修盘环的重量，修盘环表面设置有若干固定孔，固定孔在所述修盘环表面呈中心对称分布，或者其中一个固定孔设置于修盘环的中心，剩余的固定孔呈中心对称分布；下修盘环的底部设置有外径小于修盘环底部的凹槽，在修盘环底部的四周设置有若干排液槽，所述的载样盘与所述修盘环的固定孔保持间隙配合。本发明可同时研磨抛光多个小样品，既大大提高了效率，又避免了修盘环齿韧的磨损和样品侧歪而导致的抛光面不平，同时当研磨抛光硬度较大的样品时可以使用增重体用来提高研磨效率和质量。