- 专利标题: 用于形成金属氧化物膜的涂布液、金属氧化物膜、场效应晶体管和制造场效应晶体管的方法
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申请号: CN201480024713.X申请日: 2014-03-26
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公开(公告)号: CN105190854B公开(公告)日: 2018-01-30
- 发明人: 中村有希 , 植田尚之 , 松本真二 , 高田美树子 , 曾根雄司 , 早乙女辽一 , 新江定宪 , 安部由希子
- 申请人: 株式会社理光
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 株式会社理光
- 当前专利权人: 株式会社理光
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 宋莉; 肖靖泉
- 优先权: 2013-072954 2013.03.29 JP
- 国际申请: PCT/JP2014/059695 2014.03.26
- 国际公布: WO2014/157733 EN 2014.10.02
- 进入国家日期: 2015-10-29
- 主分类号: H01L21/368
- IPC分类号: H01L21/368 ; C09D1/00 ; H01L29/786
摘要:
提供用于形成金属氧化物膜的涂布液,其含有:铟化合物;选自镁化合物、钙化合物、锶化合物、和钡化合物的至少一种;选自含有其氧化数的最大正值为IV的金属的化合物、含有其氧化数的最大正值为V的金属的化合物,和含有其氧化数的最大正值为VI的金属的化合物的至少一种;以及有机溶剂。
公开/授权文献
- CN105190854A 用于形成金属氧化物膜的涂布液、金属氧化物膜、场效应晶体管和制造场效应晶体管的方法 公开/授权日:2015-12-23
IPC分类: