发明公开
- 专利标题: 用于半导体器件的接触焊盘
- 专利标题(英): Contact Pad for Semiconductor Device
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申请号: CN201410829436.1申请日: 2014-12-26
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公开(公告)号: CN105280599A公开(公告)日: 2016-01-27
- 发明人: 黄昶嘉 , 林宗澍 , 谢政杰 , 吴伟诚
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹
- 代理机构: 北京德恒律治知识产权代理有限公司
- 代理商 章社杲; 李伟
- 优先权: 62/003,979 2014.05.28 US; 14/475,169 2014.09.02 US
- 主分类号: H01L23/488
- IPC分类号: H01L23/488
摘要:
本发明提供了利用邻近接触焊盘的伪焊盘部件的器件及其制造方法。接触焊盘可以是集成的扇出封装件中的接触焊盘,在集成的扇出封装件中,模塑料沿着管芯的侧部放置并且接触焊盘在管芯和模塑料的上方延伸。接触焊盘使用一个或多个重分布层电连接至管芯。伪焊盘部件与接触焊盘电隔离。在一些实施例中,伪焊盘部件部分地环绕接触焊盘,并且位于模塑料的拐角区域中、管芯的中心区域中和/或管芯的边缘和模塑料之间的界面区域中。本发明涉及用于半导体器件的接触焊盘。
公开/授权文献
- CN105280599B 用于半导体器件的接触焊盘 公开/授权日:2018-04-10
IPC分类: