半导体器件及其形成方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116741730A

    公开(公告)日:2023-09-12

    申请号:CN202310415915.8

    申请日:2023-04-18

    Abstract: 提供了集成电路封装件及其形成方法。在实施例中,器件包括:第一集成电路管芯;第二集成电路管芯;间隙填充电介质,位于第一集成电路管芯的第一侧壁和第二集成电路管芯的第二侧壁之间;保护盖,与间隙填充电介质、第一集成电路管芯的第一侧壁和第二集成电路管芯的第二侧壁重叠;以及隔离层,位于保护盖周围,隔离层设置在第一集成电路管芯和第二集成电路管芯上。本申请的实施例还涉及半导体器件及其形成方法。

    封装件结构及其形成方法

    公开(公告)号:CN107452634B

    公开(公告)日:2021-03-09

    申请号:CN201710344109.0

    申请日:2017-05-16

    Abstract: 凸块下冶金(UBM)和再分布层(RDL)布线结构包括形成在管芯上方的RDL。RDL包括第一导电部分和第二导电部分。在RDL中第一导电部分和第二导电部分处于相同水平。RDL的第一导电部分通过RDL的绝缘材料与RDL的第二导电部分分离。UBM层形成在RDL上方。UBM层包括导电UBM迹线和导电UBM焊盘。UBM迹线将RDL的第一导电部分电连接至RDL的第二导电部分。UBM焊盘电连接至RDL的第二导电部分。导电连接器形成在UBM焊盘上方并且电连接至UBM焊盘。本发明实施例提供一种形成封装件的方法。

    封装结构
    3.
    发明公开
    封装结构 审中-公开

    公开(公告)号:CN112151495A

    公开(公告)日:2020-12-29

    申请号:CN202010453969.X

    申请日:2020-05-26

    Abstract: 本公开的一些实施例提供一种封装结构。封装结构包括一第一通孔结构以及一半导体裸片,第一通孔结构形成在一基板中,半导体裸片形成在第一通孔结构下方。封装结构还包括一导电结构,导电结构形成在基板上方的一护层中。导电结构包括一第一导孔部分以及一第二导孔部分,第一导孔部分直接地形成在第一通孔结构上方,且没有导电材料直接地形成在第二导孔部分下方并直接接触第二导孔部分。

    半导体装置及其形成方法

    公开(公告)号:CN111276453B

    公开(公告)日:2021-11-16

    申请号:CN201910671415.4

    申请日:2019-07-24

    Abstract: 在实施例中,一种装置包括:集成电路管芯;重布线结构,位于集成电路管芯的前侧表面之上;插座,位于重布线结构之上;机械支架,位于插座之上,所述机械支架具有暴露出插座的开口,插座的边缘区与开口处的机械支架的边缘区交叠;第一支座螺钉,设置在机械支架的边缘区中,所述第一支座螺钉实体地接触插座,所述第一支座螺钉在插座与机械支架之间延伸第一距离;以及螺栓,延伸穿过机械支架及重布线结构。

Patent Agency Ranking