- 专利标题: GaInP/GaAs /InGaAs/Ge四结级联太阳电池及其制作方法
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申请号: CN201410247480.1申请日: 2014-06-05
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公开(公告)号: CN105280745B公开(公告)日: 2018-04-24
- 发明人: 陈俊霞 , 任昕 , 边历峰 , 陆书龙 , 贾少鹏 , 王青松 , 王鑫
- 申请人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
- 申请人地址: 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号
- 专利权人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
- 当前专利权人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 李茂家
- 主分类号: H01L31/0687
- IPC分类号: H01L31/0687 ; H01L31/18
摘要:
本申请公开了一种四结级联太阳电池及其制作方法,将基于倒置结构生长的GaInP/GaAs/InGaAs三结太阳和Ge太阳电池进行单片集成,实现四结带隙能量分别为1.9/1.4/1.0/0.67eV的太阳电池。本发明采用具有特殊结构形态的石墨烯键合面,石墨烯键合面优异的导电性和透光性使其可有效抑制键合界面电损耗和光损耗,其延展性有助于释放应力。因此制备得到的四结单片高效太阳电池可以获得高电压、低电流输出,从而有效降低超高倍聚光太阳电池中的电阻损失,获得较高的转换效率。
公开/授权文献
- CN105280745A GaInP/GaAs/InGaAs/Ge四结级联太阳电池及其制作方法 公开/授权日:2016-01-27
IPC分类: