- 专利标题: 将VLSI可兼容的鳍结构与选择性外延生长集成并在其上制造器件
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申请号: CN201380076946.X申请日: 2013-06-28
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公开(公告)号: CN105308728B公开(公告)日: 2019-01-29
- 发明人: N·戈埃尔 , R·皮尔拉瑞斯帝 , W·瑞驰梅迪 , J·T·卡瓦利罗斯 , G·德威 , B·楚-昆古 , M·拉多萨佛杰维科 , M·V·梅茨 , N·穆克赫吉 , R·S·乔
- 申请人: 英特尔公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 英特尔公司
- 当前专利权人: 英特尔公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 张东梅
- 国际申请: PCT/US2013/048773 2013.06.28
- 国际公布: WO2014/209396 EN 2014.12.31
- 进入国家日期: 2015-11-27
- 主分类号: H01L21/336
- IPC分类号: H01L21/336 ; H01L29/78 ; H01L21/20
摘要:
通过从在第一沟槽底部处的衬底表面外延生长第一类型材料的第一外延区域形成不同的n‑和p‑型器件鳍,第一沟槽形成于浅沟槽隔离(STI)区域之间。STI区域和第一沟槽高度是它们的宽度的至少1.5倍。蚀刻掉STI区域以暴露衬底的顶面,从而在第一外延区域之间形成第二沟槽。在第一外延区域的侧壁上的第二沟槽中形成间隔材料的层。从在第一外延区域之间的第二沟槽的底部处的衬底表面生长第二类型材料的第二外延区域。可从第一和第二外延区域形成n‑和p‑型鳍对。鳍被共同集成并且减少了来自材料界面晶格失配的缺陷。
公开/授权文献
- CN105308728A 将VLSI可兼容的鳍结构与选择性外延生长集成并在其上制造器件 公开/授权日:2016-02-03
IPC分类: