• 专利标题: 存储器单元,操作及制造方法,半导体装置结构,及存储器系统
  • 专利标题(英): Memory cells, methods of operation and fabrication, semiconductor device structures, and memory systems
  • 申请号: CN201480038446.1
    申请日: 2014-06-27
  • 公开(公告)号: CN105359217A
    公开(公告)日: 2016-02-24
  • 发明人: 古尔特杰·S·桑胡维托尔德·库拉
  • 申请人: 美光科技公司
  • 申请人地址: 美国爱达荷州
  • 专利权人: 美光科技公司
  • 当前专利权人: 美光科技公司
  • 当前专利权人地址: 美国爱达荷州
  • 代理机构: 北京律盟知识产权代理有限责任公司
  • 代理商 路勇
  • 优先权: 13/932,497 2013.07.01 US
  • 国际申请: PCT/US2014/044630 2014.06.27
  • 国际公布: WO2015/002839 EN 2015.01.08
  • 进入国家日期: 2016-01-04
  • 主分类号: G11C11/15
  • IPC分类号: G11C11/15 G11C11/00
存储器单元,操作及制造方法,半导体装置结构,及存储器系统
摘要:
一种磁性单元核心包含接近于磁性区域(例如,自由区域或固定区域)的至少一个应力源结构。所述磁性区域可由展现磁致伸缩的磁性材料形成。在切换期间,所述应力源结构可经受通过所述磁性单元核心的编程电流。响应于所述电流,所述应力源结构的大小可改变。归因于所述大小变化,所述应力源结构可施加应力于所述磁性区域上,且借此改变其磁各向异性。在一些实施例中,可在切换期间降低所述磁性区域的MA强度,使得较低编程电流可用于切换所述自由区域的磁性定向。在一些实施例中,多个应力源结构可包含于所述磁性单元核心中。本发明还揭示制造及操作的方法以及相关装置结构及系统。
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