发明授权
- 专利标题: 一种阵列基板及制作方法
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申请号: CN201610003750.3申请日: 2016-01-04
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公开(公告)号: CN105489596B公开(公告)日: 2019-05-21
- 发明人: 杨小飞 , 莫再隆 , 辛燕霞 , 代科 , 朱亚文 , 苏磊
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 许静; 黄灿
- 主分类号: H01L23/60
- IPC分类号: H01L23/60 ; H01L27/12
摘要:
本发明提供一种阵列基板及制作方法,涉及显示领域。其中,阵列基板包括依次形成在衬底基板上的金属图形以及导电图形,所述导电图形与所述金属图形绝缘,与所述导电图形同层同材料形成的静电释放图形,所述静电释放图形与所述导电图形绝缘,并连接所述金属图形。本发明的方案在形成导电图形的制作工艺中还额外形成一个用于与金属图形连接的静电释放图形,该静电释放图形用于释放金属图形上一部分静电,防止金属图形的静电击穿到导电图形上,从而与导电图形短接。由于该静电释放图形可以采用导电图形的构图工艺形成,因此本实施例的阵列基板并不会额外增加制作成本,具有很高应用价值。
公开/授权文献
- CN105489596A 一种阵列基板及制作方法 公开/授权日:2016-04-13
IPC分类: