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发明公开
CN105518532A 尤其用于微光刻投影曝光设备的镜子 有权

尤其用于微光刻投影曝光设备的镜子
摘要：
本发明涉及一种镜子，尤其是用于微光刻投影曝光设备的镜子。根据本发明的镜子(10、20、30、40)具有光学作用面(10a、20a、30a、40a)、镜子衬底(11、21、31、41)和用于反射撞击到所述光学作用面(10a、20a、30a、40a)上的电磁射线的反射层垛(14、24、34、44)；其中在镜子衬底(11、21、31、41)与反射层垛(14、24、34、44)之间布置由III族氮化物构成的层(13、23、33、43)，其中所述III族氮化物从包含氮化镓(GaN)、氮化铝(AlN)和铝镓氮化物(AlGaN)的组中选出。
摘要（英）：

The invention relates to a mirror, more particularly for a microlithographic projection exposure apparatus. A mirror (10, 20, 30, 40) according to the invention has an optical effective surface (10a, 20a, 30a, 40a), a mirror substrate (11, 21, 31, 41) and a reflection layer stack (14, 24, 34, 44) for reflecting electromagnetic radiation impinging on the optical effective surface (10a, 20a, 30a, 40a), wherein a layer (13, 23, 33, 43) composed of a group III nitride is arranged between the mirror substrate (11, 21, 31, 41) and the reflection layer stack (14, 24, 34, 44), wherein the group III nitride is selected from the group containing gallium nitride (GaN), aluminum nitride (AlN) and aluminum gallium nitride (AlGaN).

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