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公开(公告)号：CN105518532B
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201480049179.8
申请日：2014-06-25
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人： M.赫尔曼
摘要： 本发明涉及一种镜子，尤其是用于微光刻投影曝光设备的镜子。根据本发明的镜子(10、20、30、40)具有光学作用面(10a、20a、30a、40a)、镜子衬底(11、21、31、41)和用于反射撞击到所述光学作用面(10a、20a、30a、40a)上的电磁射线的反射层垛(14、24、34、44)；其中在镜子衬底(11、21、31、41)与反射层垛(14、24、34、44)之间布置由III族氮化物构成的层(13、23、33、43)，其中所述III族氮化物从包含氮化镓(GaN)、氮化铝(AlN)和铝镓氮化物(AlGaN)的组中选出。
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公开(公告)号：CN103250101B
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：CN201180056581.5
申请日：2011-11-17
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： G01K11/00 , G01B9/02024 , G01B9/02081 , G01B2290/70 , G01M11/005 , G02B7/181 , G03F7/708 , G03F7/7085 , G03F7/70891
摘要： 本发明涉及用于确定在光学系统，尤其是微光刻投射曝光设备中的反射镜(101、201、401、601、701、801)的发热状况的方法和布置。在实施例中，反射镜为EUV反射镜，以及根据本发明的方法包含以下步骤：将至少一个输入测量光束偏转至反射镜(101、201、401、601、701、801)上；测定由输入测量光束在与反射镜(101、201、401、601、701、801)的相互作用之后产生的至少一个输出测量光束的至少一个光学参数；以及基于所述参数确定反射镜(101、201、401、601、701、801)的发热状况。
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公开(公告)号：CN103250101A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201180056581.5
申请日：2011-11-17
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： G01K11/00 , G01B9/02024 , G01B9/02081 , G01B2290/70 , G01M11/005 , G02B7/181 , G03F7/708 , G03F7/7085 , G03F7/70891
摘要： 本发明涉及用于确定在光学系统，尤其是微光刻投射曝光设备中的反射镜(101、201、401、601、701、801)的发热状况的方法和布置。在实施例中，反射镜为EUV反射镜，以及根据本发明的方法包含以下步骤：将至少一个输入测量光束偏转至反射镜(101、201、401、601、701、801)上；测定由输入测量光束在与反射镜(101、201、401、601、701、801)的相互作用之后产生的至少一个输出测量光束的至少一个光学参数；以及基于所述参数确定反射镜(101、201、401、601、701、801)的发热状况。
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公开(公告)号：CN105518532A
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201480049179.8
申请日：2014-06-25
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人： M.赫尔曼
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要： 本发明涉及一种镜子，尤其是用于微光刻投影曝光设备的镜子。根据本发明的镜子(10、20、30、40)具有光学作用面(10a、20a、30a、40a)、镜子衬底(11、21、31、41)和用于反射撞击到所述光学作用面(10a、20a、30a、40a)上的电磁射线的反射层垛(14、24、34、44)；其中在镜子衬底(11、21、31、41)与反射层垛(14、24、34、44)之间布置由III族氮化物构成的层(13、23、33、43)，其中所述III族氮化物从包含氮化镓(GaN)、氮化铝(AlN)和铝镓氮化物(AlGaN)的组中选出。
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