- 专利标题: 沉积掩模、制造沉积掩模的方法和制造显示装置的方法
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申请号: CN201510810629.7申请日: 2015-11-20
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公开(公告)号: CN105624609B公开(公告)日: 2019-07-05
- 发明人: 任星淳 , 黄圭焕 , 金在植 , 文敏浩 , 文英慜 , 张淳喆 , 姜泰旭
- 申请人: 三星显示有限公司
- 申请人地址: 韩国京畿道
- 专利权人: 三星显示有限公司
- 当前专利权人: 三星显示有限公司
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道
- 代理机构: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
- 代理商 王达佐; 杨莘
- 优先权: 10-2014-0163717 20141121 KR 10-2015-0155870 20151106 KR
- 主分类号: C23C14/04
- IPC分类号: C23C14/04 ; C23C16/04 ; H01L21/56
摘要:
一种沉积掩模包括具有多个图案孔的掩模主体;从所述掩模主体突出的多个突出物;以及形成在所述掩模主体中的多个凹槽,其中所述掩模主体的颗粒尺寸在约10nm至约1000nm的范围中,且其中所述多个突出物的最大高度和所述多个凹槽的最大高度之间的差异等于或小于0.5μm。
公开/授权文献
- CN105624609A 沉积掩模、制造沉积掩模的方法和制造显示装置的方法 公开/授权日:2016-06-01
IPC分类: