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公开(公告)号：CN117915737A
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202311340728.4
申请日：2023-10-16
申请人： 三星显示有限公司
摘要： 提供了一种掩模组件制造方法和一种掩模组件，所述掩模组件制造方法包括以下步骤：准备掩模片和框架；将掩模片拉伸并固定到框架；将单位掩模固定在掩模片上；以及在将单位掩模固定在掩模片上之后，通过去除掩模片的与单位掩模叠置的叠置部分来形成开口。
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公开(公告)号：CN117467933A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202310923281.7
申请日：2023-07-26
申请人： 三星显示有限公司
摘要： 本公开涉及一种掩模框、一种掩模组件和一种制造掩模组件的方法。所述掩模框包括：第一表面，面向掩模；第二表面，以一角度从所述第一表面的一侧延伸；第三表面，以一角度从所述第一表面的另一侧延伸以限定框开口；以及第一流动路径，包括穿过所述第一表面限定并在第一方向上延伸的第一开口和从所述第一开口延伸、穿过所述第二表面限定并在不同于所述第一方向的第二方向上延伸的第二开口。
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公开(公告)号：CN117444390A
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202310920220.5
申请日：2023-07-26
申请人： 三星显示有限公司
摘要： 本公开涉及一种制造掩模组件的设备、一种修复掩模组件的方法以及一种掩模组件。所述制造掩模组件的设备(也被称为掩模组件制造设备)包括载物台和拉伸器。设置在所述载物台上的初步掩模组件包括开口掩模和框架，所述开口掩模包括第一开口和第二开口，所述框架连接到所述开口掩模。所述拉伸器使单位掩模在第一方向上拉伸，所述单位掩模包括单元区域和保持区域，所述单元区域包括沉积开口，所述保持区域从所述单元区域延伸。所述单元区域具有平行于所述第一方向的第一宽度和平行于与所述第一方向相交的第二方向并且大于所述第一宽度的第二宽度。
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公开(公告)号：CN108374147B
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN201810089595.0
申请日：2018-01-30
申请人： 三星显示有限公司
摘要： 本发明涉及能够提升图案精度的掩模组件的制造方法，该方法包括以下步骤：准备载体衬底；在载体衬底上涂覆第一光致抗蚀剂；对第一光致抗蚀剂进行图案化以形成第一光致抗蚀剂图案；在载体衬底和第一光致抗蚀剂上涂覆第二光致抗蚀剂；对第二光致抗蚀剂进行图案化以形成第二光致抗蚀剂图案；在载体衬底上沉积金属层；去除布置在第一光致抗蚀剂图案和第二光致抗蚀剂图案上的金属层；以及将载体衬底与金属层分离以制造分割掩模，其中，第一光致抗蚀剂为正(positive)性光致抗蚀剂，而第二光致抗蚀剂为负(negative)性光致抗蚀剂。
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公开(公告)号：CN107424909A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201710064161.0
申请日：2017-02-04
申请人： 三星显示有限公司
CPC分类号： H01L21/77 , H01L21/02617
摘要： 本发明实施方式公开了沉积用掩模的制造方法，该方法使用电铸镀将金属镀层在电极板上来制造包括焊接部、肋部和图案部的沉积用掩模，该方法包括：将第一光致抗蚀剂层涂覆在电极板上；向第一光致抗蚀剂层照射光，其中，半色调掩模布置在光源与第一光致抗蚀剂层之间，以在第一光致抗蚀剂层上形成多个曝光区域，其中，半色调掩模具有阻断区域、透射区域以及一个或多个半透射区域；对多个曝光区域进行显影，以将第一镀层区域暴露至外部；将第一金属层镀层在第一镀层区域上；对第一光致抗蚀剂层进行灰化，以将第二镀层区域暴露至外部；将第二金属层镀层在第一金属层和电极板上的第二镀层区上；以及去除第一光致抗蚀剂层和电极板。
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公开(公告)号：CN106399933A
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：CN201610584540.8
申请日：2016-07-22
申请人： 三星显示有限公司
IPC分类号： C23C14/04 , C23F1/02 , B23K26/382
CPC分类号： B23K26/384 , B23K26/0093 , B23K26/40 , B23K2103/26 , C23C14/042 , G03F7/004 , H01L21/02063 , H01L21/76804 , H01L51/0011 , B23K26/382 , C23F1/02
摘要： 公开了制造掩模的方法，该方法包括：使用激光在基础材料中形成第一孔，第一孔从第一表面至与第一表面不同的第二表面穿透基础材料；以及使用刻蚀剂扩张第一孔以形成第二孔。
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公开(公告)号：CN105579618A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201480052773.2
申请日：2014-09-16
申请人： 三星显示有限公司 , 东进世美肯科技有限公司
CPC分类号： H01L21/30604 , C23F1/18 , H01L21/32134 , H01L27/124 , H01L29/45
摘要： 根据本发明的实施例的蚀刻剂组合物包括：基于蚀刻剂组合物的总重量，0.5wt％至20wt％的过硫酸盐、0.01wt％至1wt％的氟化合物、1wt％至大约10wt％的无机酸、0.01wt％至2wt％的吡咯类化合物、0.1wt％至5wt％的氯化合物、0.05wt％至3wt％的铜盐、0.01wt％至5wt％的抗氧化剂或其盐以及水以使蚀刻剂组合物的总重量到100wt％。所述蚀刻剂组合物可以用于通过蚀刻包括铜的金属膜来形成金属布线或制造薄膜晶体管基底。
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公开(公告)号：CN117858594A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202311241722.1
申请日：2023-09-25
申请人： 三星显示有限公司
摘要： 本公开涉及一种掩模组件和一种掩模组件制造方法。所述掩模组件包括：框架，包含连接以限定框架开口的第一侧部至第四侧部；开口片，包含：主体部，在所述主体部中限定多个片开口，所述多个片开口在第一方向和第二方向上布置，并且与所述框架开口重叠；以及连接部，从所述主体部突出并且至少部分地与所述框架重叠；以及多个掩模，所述多个掩模各自包含：沉积部，具有限定在所述沉积部中的沉积开口；以及多个耦接部，从所述沉积部突出并且彼此间隔开，且所述沉积部在所述多个耦接部之间。所述连接部包括：第一连接部和第二连接部，与所述框架重叠；以及多个第三连接部和多个第四连接部，至少部分地与所述框架重叠。
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公开(公告)号：CN117737647A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202311216380.8
申请日：2023-09-20
申请人： 三星显示有限公司
摘要： 公开掩模组件和制造该掩模组件的方法。该掩模组件包括：开放掩模，包括第一开放开口和第二开放开口，该第一开放开口和第二开放开口被限定穿过开放掩模并且在第一方向上交替布置；第一单元掩模，分别对应于第一开放开口；以及第二单元掩模，分别对应于第二开放开口。第一单元掩模中的每一个包括：第一沉积部分，第一沉积开口被限定穿过第一沉积部分；以及第一焊接部分和第二焊接部分，分别从第一沉积部分向第一方向和与第一方向相反的方向延伸。第二单元掩模中的每一个包括：第二沉积部分，第二沉积开口被限定穿过第二沉积部分；以及第三焊接部分和第四焊接部分，分别从第二沉积部分向第二方向和与第二方向相反的方向延伸。
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公开(公告)号：CN114934253A
公开(公告)日：2022-08-23
申请号：CN202210112682.X
申请日：2022-01-29
申请人： 三星显示有限公司
摘要： 提供了一种掩模，所述掩模包括：掩模框，包括基体部和涂覆部，基体部中限定有单元开口，涂覆部围绕单元开口的边缘，覆盖基体部的上表面的至少一部分，并且包括与基体部的材料不同的材料；以及单位掩模，位于掩模框上，分别对应于单元开口，包括与涂覆部的材料不同的材料，并且单位掩模中限定有开口。
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