- 专利标题: 聚合物、有机层组合物、有机层以及形成图案的方法
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申请号: CN201510794412.1申请日: 2015-11-18
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公开(公告)号: CN105646850B公开(公告)日: 2018-12-28
- 发明人: 文秀贤 , 权孝英 , 金昇炫 , 南宫烂 , 豆米尼阿·拉特维 , 郑铉日 , 许柳美
- 申请人: 三星SDI株式会社
- 申请人地址: 韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号
- 专利权人: 三星SDI株式会社
- 当前专利权人: 三星SDI株式会社
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号
- 代理机构: 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理商 陶敏; 臧建明
- 优先权: 10-2014-0169131 2014.11.28 KR
- 主分类号: C08G61/12
- IPC分类号: C08G61/12 ; C08L65/00 ; H01L21/027 ; G03F1/56
摘要:
本发明公开一种聚合物、有机层组合物、有机层以及形成图案的方法,具体公开由化学式1表示的部分的聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、由所述有机层组合物形成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。化学式1表示如下,其中,在化学式1中,A1和A2各自独立地是衍生自含氮原子的芳环基团的二价基团,A3和A4各自独立地是由化学式2表示的二价基团,n是0或1,以及‘*’指示化合物或化合物的部分的连接点。可以提供具有改善的溶解性、耐蚀刻性以及储存稳定性的有机层材料。
公开/授权文献
- CN105646850A 聚合物、有机层组合物、有机层以及形成图案的方法 公开/授权日:2016-06-08