公开(公告)号：CN112731766A

公开(公告)日：2021-04-30

申请号：CN202011089400.6

申请日：2020-10-13

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 金昇炫 ,  郑铉日 ,  金尙美 ,  金铃根 ,  朴相喆

IPC分类号： G03F7/09 ,  C08G8/04

摘要： 本发明提供一种硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法，所述硬掩模组合物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由化学式1表示的结构单元。在化学式1中，A、B以及R1到R5的定义如本说明书中所描述。所述硬掩模组合物能够改进耐蚀刻性和膜密度。[化学式1]

公开(公告)号：CN106188504A

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：CN201510409508.1

申请日：2015-07-13

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 南沇希 ,  金昇炫 ,  权孝英 ,  金瑆焕 ,  南宫烂 ,  文秀贤 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  宋炫知 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC分类号： C08G61/12 ,  C08G65/00 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00

摘要： 本发明提供一种聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、由所述有机层组合物制成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述聚合物包含用化学式1表示的部分，所述化学式1的定义与具体实施方式中所定义的相同。所述聚合物同时确保抗蚀刻性和平面化特征。

公开(公告)号：CN105885018A

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201510795893.8

申请日：2015-11-18

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 南宫烂 ,  权孝英 ,  金昇炫 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  文秀贤 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC分类号： C08G61/12 ,  C08L65/00 ,  H01L21/027 ,  G03F1/56

CPC分类号： C08G12/00 ,  C08G12/26 ,  C08G61/124 ,  C08G73/0672 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/148 ,  C08G2261/314 ,  C08G2261/3241 ,  C08G2261/3424 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/094 ,  H01L21/0271 ,  C08L65/00 ,  G03F1/56 ,  H01L21/0276

摘要： 本发明提供一种包含由化学式1表示的部分的聚合物、一种包含所述聚合物的有机层组成物、一种由所述有机层组成物制成的有机层以及一种使用所述有机层组成物形成图案的方法。本发明的聚合物具有良好的膜密度、抗蚀刻性以及可溶性。

公开(公告)号：CN110734528B

公开(公告)日：2022-07-05

申请号：CN201910644580.0

申请日：2019-07-17

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 金瑆焕 ,  朴裕信 ,  郑铉日

IPC分类号： C08G8/04 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16

摘要： 本申请公开一种包含由化学式1表示的第一化合物与由化学式2表示的第二化合物的反应产物的聚合物、包含聚合物的有机层组合物以及使用有机层组合物形成图案的方法。根据本发明的有机膜组合物在通过旋涂方法施加时可具有改进的平坦化特征和间隙填充特征，同时确保耐蚀刻性。[化学式1](CHO)n1‑Ar1‑X‑Ar2‑(CHO)n2[化学式2]Ar3‑(OH)m化学式1及化学式2的定义与在说明书中的描述相同。

公开(公告)号：CN107337776B

公开(公告)日：2019-12-31

申请号：CN201610899626.X

申请日：2016-10-14

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 权孝英 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  郑铉日

IPC分类号： C08G14/02 ,  C08G14/09 ,  C08G14/04 ,  C09D161/34 ,  G03F7/00

摘要： 本发明提供一种聚合物、有机层组成物以及形成图案的方法，包含由化学式1表示的结构单元的聚合物，和包含所述聚合物的有机层组成物，以及形成图案的方法。本发明提供的聚合物具有极好的抗蚀刻性同时具有良好溶解度特征。化学式1与具体实施方式中所定义的相同。

公开(公告)号：CN106046696B

公开(公告)日：2019-04-09

申请号：CN201510919487.8

申请日：2015-12-11

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 朴裕信 ,  金润俊 ,  金兑镐 ,  朴惟廷 ,  崔有廷 ,  权孝英 ,  金昇炫 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  文秀贤 ,  宋炫知 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC分类号： C08L65/00 ,  C08G61/12 ,  G03F7/00

摘要： 一种有机层组合物包含：包含由化学式1表示的部分的聚合物、由化学式2表示的单体以及溶剂，还提供一种由所述有机层组合物制造的有机层，和一种使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物可以提供同时确保耐蚀刻性、耐热性以及平坦化特征的有机层。化学式1和化学式2的定义与具体实施方式中相同。[化学式1][化学式2]

公开(公告)号：CN111383912B

公开(公告)日：2023-02-28

申请号：CN201911354471.1

申请日：2019-12-25

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 金昇炫 ,  朴裕信 ,  朴亨锡 ,  金瑆焕 ,  郑铉日

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/09

摘要： 本发明公开一种硬掩模组成物、硬掩模层以及形成图案的方法，硬掩模组成物包含聚合物和溶剂，聚合物包含由化学式1表示的结构单元。在化学式1中，A和B的定义与详细描述中所描述的相同。[化学式1]。

公开(公告)号：CN108291013B

公开(公告)日：2020-10-16

申请号：CN201680070703.9

申请日：2016-10-19

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 豆米尼阿·拉特维 ,  郑铉日 ,  权孝英 ,  南宫烂 ,  南沇希 ,  文秀贤 ,  宋炫知 ,  许柳美

IPC分类号： C08G61/02 ,  C08G61/12 ,  G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00

摘要： 本发明揭示一种聚合物，其包含由化学式1表示的结构单元及由化学式2表示的结构单元；包含所述聚合物的有机层组成物；及使用所述有机层组成物形成图案的方法。在化学式1及化学式2中，A1及A2独立地为二价基团，其包含经取代或未经取代的苯环中的至少一者，A3为包含四级碳的二价基团，且*为连接点。

公开(公告)号：CN111542558A

公开(公告)日：2020-08-14

申请号：CN201880079125.4

申请日：2018-09-17

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 郑铉日 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  朴裕信 ,  朴惟廷 ,  辛乘旭 ,  林栽范

IPC分类号： C08G61/12 ,  C09D183/04 ,  G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027 ,  H01L21/033

摘要： 本公开是有关于一种聚合物、包含所述聚合物的有机膜组成物以及使用所述有机膜组成物形成图案的方法，其中所述聚合物包括由化学式1表示的结构单元、以及由化学式2或3表示的结构单元。化学式1至3的定义与在说明书中的描述相同。[化学式1] [化学式2] [化学式3]

公开(公告)号：CN105646850B

公开(公告)日：2018-12-28

申请号：CN201510794412.1

申请日：2015-11-18

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 文秀贤 ,  权孝英 ,  金昇炫 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC分类号： C08G61/12 ,  C08L65/00 ,  H01L21/027 ,  G03F1/56

摘要： 本发明公开一种聚合物、有机层组合物、有机层以及形成图案的方法，具体公开由化学式1表示的部分的聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、由所述有机层组合物形成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。化学式1表示如下，其中，在化学式1中，A1和A2各自独立地是衍生自含氮原子的芳环基团的二价基团，A3和A4各自独立地是由化学式2表示的二价基团，n是0或1，以及‘*’指示化合物或化合物的部分的连接点。可以提供具有改善的溶解性、耐蚀刻性以及储存稳定性的有机层材料。