公开(公告)号：CN108291013B

公开(公告)日：2020-10-16

申请号：CN201680070703.9

申请日：2016-10-19

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 豆米尼阿·拉特维 ,  郑铉日 ,  权孝英 ,  南宫烂 ,  南沇希 ,  文秀贤 ,  宋炫知 ,  许柳美

IPC分类号： C08G61/02 ,  C08G61/12 ,  G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00

摘要： 本发明揭示一种聚合物，其包含由化学式1表示的结构单元及由化学式2表示的结构单元；包含所述聚合物的有机层组成物；及使用所述有机层组成物形成图案的方法。在化学式1及化学式2中，A1及A2独立地为二价基团，其包含经取代或未经取代的苯环中的至少一者，A3为包含四级碳的二价基团，且*为连接点。

公开(公告)号：CN106084159B

公开(公告)日：2019-10-01

申请号：CN201610183382.5

申请日：2016-03-28

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 文秀贤 ,  权孝英 ,  南宫烂 ,  南沇希 ,  宋炫知

IPC分类号： C08G8/04 ,  G03F1/46 ,  G03F1/48

摘要： 本发明是关于一种聚合物、有机层组合物以及形成图案的方法。所述聚合物包含由化学式1表示的第一部分和包含经取代或未经取代的C6至C60环基、经取代或未经取代的C6至C60杂环基或其组合的第二部分。本发明的聚合物具有良好的溶解度特征以及极好的耐蚀刻性。[化学式1]

公开(公告)号：CN105646850B

公开(公告)日：2018-12-28

申请号：CN201510794412.1

申请日：2015-11-18

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 文秀贤 ,  权孝英 ,  金昇炫 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC分类号： C08G61/12 ,  C08L65/00 ,  H01L21/027 ,  G03F1/56

摘要： 本发明公开一种聚合物、有机层组合物、有机层以及形成图案的方法，具体公开由化学式1表示的部分的聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、由所述有机层组合物形成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。化学式1表示如下，其中，在化学式1中，A1和A2各自独立地是衍生自含氮原子的芳环基团的二价基团，A3和A4各自独立地是由化学式2表示的二价基团，n是0或1，以及‘*’指示化合物或化合物的部分的连接点。可以提供具有改善的溶解性、耐蚀刻性以及储存稳定性的有机层材料。

公开(公告)号：CN106046696A

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201510919487.8

申请日：2015-12-11

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 朴裕信 ,  金润俊 ,  金兑镐 ,  朴惟廷 ,  崔有廷 ,  权孝英 ,  金昇炫 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  文秀贤 ,  宋炫知 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC分类号： C08L65/00 ,  C08G61/12 ,  G03F7/00

CPC分类号： C08G73/0672 ,  G03F7/0041 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  H01L51/0018

摘要： 一种有机层组合物包含：包含由化学式1表示的部分的聚合物、由化学式2表示的单体以及溶剂，还提供一种由所述有机层组合物制造的有机层，和一种使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物可以提供同时确保耐蚀刻性、耐热性以及平坦化特征的有机层。化学式1和化学式2的定义与具体实施方式中相同。[化学式1][化学式2]。

公开(公告)号：CN113495429A

公开(公告)日：2021-10-12

申请号：CN202110349838.1

申请日：2021-03-31

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 禹昌秀 ,  姜恩美 ,  金宰贤 ,  金智敏 ,  金兑镐 ,  南宫烂 ,  文京守 ,  田桓承 ,  蔡承龙 ,  韩承

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/00

摘要： 本发明公开一种包含由化学式1表示的有机金属化合物、光酸产生剂(PAG)以及溶剂的半导体光刻胶组合物和使用其形成图案的方法。化学式1的细节如详细描述中所定义。[化学式1]。

公开(公告)号：CN105622364B

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201510725055.3

申请日：2015-10-29

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 南沇希 ,  权孝英 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  文秀贤 ,  郑瑟基 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC分类号： C07C43/23 ,  C07C49/84 ,  C08G61/12 ,  C08G61/04 ,  G03F7/00

CPC分类号： C07C43/23 ,  C07C2603/50 ,  C07C2603/52 ,  C08G61/02 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/312 ,  C08G2261/314 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/362 ,  C08G2261/45 ,  C08G2261/72 ,  C09D165/00

摘要： 本发明提供一种同时确保耐蚀刻性和平坦化特征的单体、聚合物、有机层组成物、有机层及形成图案的方法，其中，本发明公开由化学式1表示的单体、由化学式2表示的聚合物、包含用于有机层的化合物(即单体、聚合物或其组合)的有机层组成物、由有机层组成物制造的有机层以及通过固化有机层组成物获得的有机层。化学式1和化学式2与具体实施方式中所定义的相同。

公开(公告)号：CN108291013A

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：CN201680070703.9

申请日：2016-10-19

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 豆米尼阿·拉特维 ,  郑铉日 ,  权孝英 ,  南宫烂 ,  南沇希 ,  文秀贤 ,  宋炫知 ,  许柳美

IPC分类号： C08G61/02 ,  C08G61/12 ,  G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00

摘要： 本发明揭示一种聚合物，其包含由化学式1表示的结构单元及由化学式2表示的结构单元；包含所述聚合物的有机层组成物；及使用所述有机层组成物形成图案的方法。在化学式1及化学式2中，A1及A2独立地为二价基团，其包含经取代或未经取代的苯环中的至少一者，A3为包含四级碳的二价基团，且*为连接点。

公开(公告)号：CN107337776A

公开(公告)日：2017-11-10

申请号：CN201610899626.X

申请日：2016-10-14

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 权孝英 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  郑铉日

IPC分类号： C08G14/02 ,  C08G14/09 ,  C08G14/04 ,  C09D161/34 ,  G03F7/00

摘要： 本发明提供一种聚合物、有机层组成物以及形成图案的方法，包含由化学式1表示的结构单元的聚合物，和包含所述聚合物的有机层组成物，以及形成图案的方法。本发明提供的聚合物具有极好的抗蚀刻性同时具有良好溶解度特征。化学式1与具体实施方式中所定义的相同。

公开(公告)号：CN105646850A

公开(公告)日：2016-06-08

申请号：CN201510794412.1

申请日：2015-11-18

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 文秀贤 ,  权孝英 ,  金昇炫 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC分类号： C08G61/12 ,  C08L65/00 ,  H01L21/027 ,  G03F1/56

CPC分类号： C08G73/0672 ,  C08G61/124 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/1428 ,  C08G2261/148 ,  C08G2261/3241 ,  C08G2261/3424 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3086 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/32139

摘要： 本发明公开一种聚合物、有机层组合物、有机层以及形成图案的方法，具体公开由化学式1表示的部分的聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、由所述有机层组合物形成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。化学式1表示如下，其中，在化学式1中，A1和A2各自独立地是衍生自含氮原子的芳环基团的二价基团，A3和A4各自独立地是由化学式2表示的二价基团，n是0或1，以及‘*’指示化合物或化合物的部分的连接点。可以提供具有改善的溶解性、耐蚀刻性以及储存稳定性的有机层材料。

公开(公告)号：CN113655689A

公开(公告)日：2021-11-16

申请号：CN202110510318.4

申请日：2021-05-11

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 韩承 ,  金宰贤 ,  文京守 ,  禹昌秀 ,  蔡承龙 ,  南宫烂 ,  田桓承

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/00

摘要： 本发明公开一种半导体光刻胶组合物和一种使用其形成图案的方法，半导体光刻胶组合物包含(A)有机金属化合物、(B)具有在25℃下小于或等于约1.0mmHg的蒸气压和约3到约5的pKa的有机酸以及(C)溶剂。